【關于反射式濾光片】在手機領域另一個應用較多的是紅外截止濾光片又稱IR-cut Filter。從原理分有反射式濾光片和吸收式濾光片兩種,它們采用了不同的玻璃基材。 反射式濾光片原理是在普通光學玻璃上交替鍍多層高折射率光學膜,達到可見光波段的高透(400-630nm),近紅外波段光線的截止(700-1100nm),截止部分干擾成像質量的近紅外光,因為通過反射方式截止紅外光線,所以容易產(chǎn)生二次反射,產(chǎn)生雜光和鬼影。 吸收式濾光片主要以藍玻璃為基材,通過藍玻璃中光吸收物質來過濾紅外光,同時通過一面鍍紅外截止膜,一面鍍增透膜來同時提升紅外的截止性能和可見光的透過率,從下圖反射率對比圖可以看出藍玻璃短波方向透過率更高、整體透過率曲線過渡更圓滑,所以實拍效果se彩還原性更自然。光學鍍膜設備詳細鍍膜方法。湖北二手光學鍍膜設備公司
【濾光片術語】 入射角度:入射光線和濾光片表面法線之間的夾角。當光線正入射時,入射角為0°。 光譜特性:濾光片光譜參數(shù)(透過率T,反射率R,光密度OD,位相,偏振狀態(tài)s,p等相對于波長變化的特性)。 中心波長:帶通濾光片的中心稱為中心波長(CWL)。通帶寬度用*大透過率 一半處的寬度表示(FWHM),通常稱為半寬。 有效孔徑:光學系統(tǒng)中有效利用的物理區(qū)域。通常于濾光片的外觀尺寸相似,同心,尺寸略小些。 截止位置/前-后:cut-on對應光譜特性從衰減到透過的50%點,cut-off對應光譜特性從透過到衰減的50%點。有時也可定義為峰值透過率的5%或者10%點。 公差Tolerance::任何產(chǎn)品都有制造公差。以帶通濾光片為例,中心波長要有公差,半寬要有公差,因此定購產(chǎn)品時一定要標明公差范圍。濾光片實際使用過程中并非公差越小越好,公差越小,制造難度越大,成本越高,用戶可以根據(jù)實際需要,提出合理公差范圍。 貴州光學鍍膜設備發(fā)展光學鍍膜設備主要用途?
【光學真空鍍膜機的應用】光學真空鍍膜機無論對于手機,數(shù)碼產(chǎn)品,還是衛(wèi)浴都有同樣的裝飾性要求產(chǎn)品,光學鍍膜通過底層鍍制顏se膜和透明介質多層膜實現(xiàn)多種顏se,se調和金屬光澤,并能配有絲印,熱轉印,鐳雕和拉絲工藝,得到多種se調的炫彩光澤,光學鍍膜加強條紋和圖案的立體視覺,它還能提高真空鍍膜的性能,并通過提高設備產(chǎn)率和穩(wěn)定性,以及降低材料消耗。 光學真空鍍膜機使用范圍略為廣fan,除3C產(chǎn)業(yè)外,也適用于其他數(shù)碼產(chǎn)品,電器,衛(wèi)浴,醫(yī)療等塑料或金屬件的裝飾及功能薄膜上加上AF、AS涂層,提升光滑度。光學真空鍍膜機可鍍制層數(shù)較多的短波通、長波通、增透膜,反射膜、濾光膜、分光膜、介質膜、高反膜、帶通膜、彩se反射膜等各膜系,能夠實現(xiàn)0-99層膜的膜系鍍膜,也能滿足如汽車反光玻璃、望遠鏡、眼鏡片、光學眼鏡頭、冷光杯等產(chǎn)品鍍膜要求。光學真空鍍膜機配置不同的蒸發(fā)源、電子qiang、離子源及鍍膜厚儀可鍍多種膜系,對金屬、氧化物,化合物及其他高熔點膜材皆可蒸鍍,并可在玻璃表面超硬。
【新型光學薄膜的典型應用】現(xiàn)代科學技術特別是激光技術和信息光學的發(fā)展,光學薄膜不僅用于純光學器件,在光電器件、光通信器件上也得到廣fan的應用。近代信息光學、光電子技術及光子技術的發(fā)展,對光學薄膜產(chǎn)品的長壽命、高可靠性及高qiang度的要求越來越高,從而發(fā)展了一系列新型光學薄膜及其制備技術,并為解決光學薄膜產(chǎn)業(yè)化面臨的問題提供了quan面的解決方案。包括高qiang度激光器、金剛石及類金剛石膜、軟X射線多層膜、太陽能選擇性吸收膜和光通信用光學膜等。廣東光學鍍膜設備廠家。
【光學炫彩紋理的關鍵先生——光刻膠】 光刻膠是指通過紫外光、準分子激光、電子束、離子束、X射線等光源的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻半流體材料。*早時期光刻膠是應用在印刷工業(yè)領域,到20世紀20年代才被逐漸用在印刷電路板領域,50年代開始用于半導體工業(yè)領域。20世紀50年代末,伊士曼柯達Eastman Kodak和施普萊 Shipley 公司分別設計出適合半導體工業(yè)需要的正膠和負膠。 光刻膠是利用曝光區(qū)和非曝光區(qū)的溶解速率差來實現(xiàn)圖像的轉移。具體從流程上來解釋,由于光刻膠具有光化學敏感性,可利用其進行光化學反應,將光刻膠涂覆半導體、導體和絕緣體上,經(jīng)曝光、顯影后留下的部分對底層起保護作用,然后采用蝕刻劑進行蝕刻就可將所需要的微細圖形從掩模版轉移到待加工的襯底上。因此光刻膠是微細加工技術中的關鍵性化工材料。 光刻膠主要由五種基本成分組成,包括聚合劑、溶劑、感光劑、光敏劑和添加劑。 光學鍍膜設備的應用。貴州光學鍍膜設備發(fā)展
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【如何改善由于設計膜系導致的光譜特性不良】膜系設計時的膜厚、折射率允差太小,試制時的分光曲線在技術要求的邊緣,制造中稍有偏差就導致分光不良。膜系設計中選用膜料的折射率應與使用膜料使用機臺吻合。膜系設計盡量考慮厚度與折射率允差(各層的厚度及折射率允許偏差1%-2%),特別是敏感層,要有一定的允差(1%)。控制厚度與實際測試厚度的" tooling"值,要準確,并經(jīng)常確認調整。設計的技術要求必須高于圖紙?zhí)岢龅募夹g要求,設計時考慮基片變異層折射率變化帶來的影響,設計時考慮膜料的折射率変化及膜料之間、膜料與基片之間的匹配。湖北二手光學鍍膜設備公司
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