Nanoscribe公司成立于2007年，總部位于德國卡爾斯魯厄，秉持著卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的技術(shù)背景的德國卡爾蔡司公司的支持，經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長，已然成為微納米生產(chǎn)的帶領(lǐng)者，一直致力于推動諸如力學(xué)超材料，微納機(jī)器人，再生醫(yī)學(xué)工程，微光學(xué)等...

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動微型機(jī)器人，并可以選擇添加金屬涂層。此...

為了制作由3D工程細(xì)胞微環(huán)境制成的體外細(xì)胞培養(yǎng)物，科學(xué)家們利用雙光子聚合技術(shù)（2PP）來制造模擬腦血管幾何形狀的仿生3D支架，該仿生幾何結(jié)構(gòu)影響膠質(zhì)母細(xì)胞瘤細(xì)胞及其定植機(jī)制。在該實(shí)驗(yàn)中，細(xì)胞可以在定制3D支架幾何結(jié)構(gòu)的引導(dǎo)下以受控方式生長。只有在強(qiáng)聚焦的激光焦...

Nanoscribe設(shè)備專注于納米，微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機(jī)設(shè)計用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結(jié)構(gòu)塑料組件和模具。在該過程中，激光固化部分流體光敏材料，逐層固化。使用雙光子聚合，分辨率可低...

3D微納加工技術(shù)應(yīng)用于材料工程領(lǐng)域。材料屬性可以通過成分和幾何設(shè)計來調(diào)整和定制。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案，可以實(shí)現(xiàn)具有特定光子，機(jī)械，生物或化學(xué)特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結(jié)構(gòu)。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是...

QuantumXshape技術(shù)特點(diǎn)概要：快速原型制作，高精度，高設(shè)計自由度，簡易明了的工程流程；工業(yè)驗(yàn)證的晶圓級批量生產(chǎn)；200個標(biāo)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)的通宵產(chǎn)量；通用及專門使用的打印材料；兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高...

德國公司Nanoscribe是高精度增材制造技術(shù)的帶領(lǐng)開發(fā)商，也是BICO集團(tuán)（前身為Cellin）的一部分，推出了一款新型高精度3D打印機(jī)，用于制造微納米級的精細(xì)結(jié)構(gòu)。據(jù)該公司稱，新的QuantumX形狀加入了該公司屢獲殊榮的QuantumX產(chǎn)品線，其晶圓處...

借助Nanoscribe的3D微納加工技術(shù)，您可以實(shí)現(xiàn)亞細(xì)胞結(jié)構(gòu)的三維成像，適用于細(xì)胞研究和芯片實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用（lab-on-a-chip）。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無掩模光刻系統(tǒng)制作了3D細(xì)胞支架來研究細(xì)胞生長、遷移和干細(xì)胞分化。此外，3D微...

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具，可實(shí)現(xiàn)通過簡單工作流程進(jìn)行高精度和高設(shè)計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL?)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精...

事實(shí)上，雙光子聚合加工是在2001年開始真正應(yīng)用在微納制造領(lǐng)域的，其先驅(qū)者是東京大阪大學(xué)的Kawata教授以及孫洪波教授。當(dāng)時這個實(shí)驗(yàn)室在nature上發(fā)表的一篇工作，也就是傳說中的納米牛引起了極大的轟動：《Finerfeaturesforfunctional...

QuantumXbio是具有高分辨率的多功能生物打印系統(tǒng)。該系統(tǒng)擁有的**技術(shù)是以雙光子聚合（2PP）為關(guān)鍵，以出色的工程設(shè)計為基礎(chǔ)，通過生物學(xué)家的想法定制并且重新設(shè)計的。作為2019年推出的First臺雙光子灰度光刻(2GL?)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)...

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)造工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quant...

Nanoscribe 的Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。Photonic Professional GT2...

Nanoscribe Quantum X align作為前列的3D打印系統(tǒng)具備了A2PL?對準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)在光纖和光子芯片上的納米級精確對準(zhǔn)。全新灰度光刻3D打印技術(shù)3D printing by 2GL?在實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的打印質(zhì)量同時兼顧打印速度，適用于微...

加入Nanoscribe的用戶行列!作為高精密增材制造領(lǐng)域的先驅(qū)和市場領(lǐng)導(dǎo)我們是您在微加工系統(tǒng)、軟件和解決方案方面的可靠合作伙伴。我們成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工分離出來的單獨(dú)子公司，是一個充滿活力、屢獲殊榮的公司，并于2021年6月成為BICO集團(tuán)的一...

為了進(jìn)一步提升技術(shù)先進(jìn)性，科研人員又在新材料研發(fā)的過程中發(fā)現(xiàn)了巨大的潛力。一方面，利用SCRIBE新技術(shù)的情況下，高折射率的光刻膠可進(jìn)一步拓展對打印結(jié)構(gòu)的光學(xué)性能的調(diào)節(jié)度。另一方面，低自發(fā)熒光的可打印材料非常適用于生物成像領(lǐng)域。Nanoscribe公司的IP系...

Nanoscribe設(shè)備專注于納米，微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機(jī)設(shè)計用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結(jié)構(gòu)塑料組件和模具。在該過程中，激光固化部分流體光敏材料，逐層固化。使用雙光子聚合，分辨率可低至2...

Nanoscribe成立于2007年，總部位于德國卡爾斯魯厄，擁有卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的技術(shù)背景和卡爾蔡司公司的支持。經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長，Nanoscribe已成為微納米生產(chǎn)的先驅(qū)和3D打印市場的帶領(lǐng)者，推動著諸如力學(xué)超材料，微納機(jī)器人，...

雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學(xué)元件(DOE)，并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級。利用增材制造即可簡單一步實(shí)現(xiàn)多級衍射光學(xué)元件(DOEs)，可以直接作為衍射光學(xué)元件(DOEs)，可以直接作為原型使用，也...

Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學(xué)和工業(yè)項(xiàng)目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說，在納米...

這款灰度光刻設(shè)備具備出色的精度和穩(wěn)定性。通過先進(jìn)的光刻技術(shù)，它能夠在微米級別上進(jìn)行精確的圖案制作，確保產(chǎn)品的質(zhì)量和精度達(dá)到比較高水平。同時，設(shè)備的穩(wěn)定性也得到了極大的提升，減少了生產(chǎn)過程中的誤差和損耗，提高了生產(chǎn)效率。這款設(shè)備具備高效的生產(chǎn)能力。它采用了快速曝...

Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領(lǐng)域的客戶群體。基于2PP微納加工技術(shù)方面的專業(yè)知識，Nanoscribe為頂端科學(xué)研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強(qiáng)大的技術(shù)支持，并推動生物打印、微流體、微納光學(xué)、微機(jī)械、生物醫(yī)學(xué)工程和集成光子學(xué)技術(shù)等不同領(lǐng)域的發(fā)展?！拔覀兎?..

這種設(shè)計策略不僅可用于改進(jìn)現(xiàn)有的傳感器，該項(xiàng)目還旨在展示具有動態(tài)移動部件的新型傳感器概念的可行性。在第二種設(shè)計中，研究人員在一根光纖的端面3D打印了一個微型轉(zhuǎn)子。從轉(zhuǎn)子上反射出的光脈沖可以被讀取，因此該傳感器可以被用于分析流速。 FabryPérot...

Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計自由度，可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng)，可以按設(shè)計需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu)。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠...

雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學(xué)元件(DOE)，并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級。利用增材制造即可簡單一步實(shí)現(xiàn)多級衍射光學(xué)元件(DOEs)，可以直接作為衍射光學(xué)元件(DOEs)，可以直接作為原型使用，也...

雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學(xué)元件（DOE），并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準(zhǔn)工藝，衍射光學(xué)元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實(shí)現(xiàn)多級...

Nanoscribe稱QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術(shù)正在申請專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍...

Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計自由度，可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng)，可以按設(shè)計需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu)。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠...

作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng)，Quantum X可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工...

Quantum X 新型超高速無掩模光刻技術(shù)的重要部分是Nanoscribe獨(dú)有的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL?）。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合，使其同時具備高速打印，完全設(shè)計自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了高級復(fù)雜增材制造對...