Ca2+離子和Si4+離子摻雜對Ce : YAP晶體有哪些影響？釔鋁石榴石(Y3Al5O12或YAG)單晶是一種優(yōu)良的激光基質(zhì)材料和光學(xué)襯底材料，其中Nd:YAG和Yb:YAG激光晶體得到了普遍的應(yīng)用。Ce:YAG晶體作為閃爍材料在1992年引起了人們的注意。Moszynski和Ludziejewski分別于1994年和1997年系統(tǒng)地研究了Ce:YAG晶體的閃爍特性，指出Ce:YAG晶體具有優(yōu)異的閃爍特性。Ce:YAG衰減快(80ns)，在530nm處發(fā)出熒光，其發(fā)射波長與硅光電二極管的探測敏感區(qū)相匹配，因此可應(yīng)用于低能射線粒子的探測等領(lǐng)域。選用Mn 離子是由于Mn 對YAP 晶體的吸收譜影...

不同溫度退火的Fe: YAP樣品的吸收光譜和差分吸收光譜，是Fe: YAP樣品在不同溫度退火后的吸收光譜和微分吸收光譜。Fe: YAP晶體的吸收光譜在203納米、246納米、270納米和325納米附近有吸收峰。差示吸收光譜顯示，氫退火后264 ~ 270納米波長范圍內(nèi)的吸收明顯減弱，氧退火后321納米出現(xiàn)差示吸收峰?？梢哉J(rèn)為246 nm和270 nm處的吸收與Fe3有關(guān)，即Fe3和Fe2之間存在躍遷[102]。除了321nm處的吸收，YAP: Fe的幾個吸收峰與純YAP晶體的吸收峰有一定距離，這不能解釋純YAP(Ce: YAP)中的其他吸收峰與鐵有關(guān)。 開中頻電源升溫至原料全部熔化，在此過程中...

國外生長的YAP單晶已達到50毫米，長約150毫米，重約1380克。隨著生長技術(shù)的提高，中科院上海光學(xué)力學(xué)研究所已經(jīng)能夠生長出直徑為50 mm的大單晶，但形狀控制和質(zhì)量有待進一步提高。比較了不同價離子摻雜對Ce: YAP晶體閃爍性能的影響。結(jié)果表明，二價離子摻雜對Ce: YAP晶體的閃爍性能有很強的負(fù)面影響，而四價離子摻雜有助于提高Ce:Yap晶體的部分閃爍性能。還研究了錳離子摻雜對Ce: YAP晶體性能的影響。發(fā)現(xiàn)YAP基體中Mn離子和Ce離子之間存在明顯的能量轉(zhuǎn)移過程，Ce和Mn: YAP的衰變時間明顯短于Ce、Mn : YAP，其快、慢成分分別為10.8ns和34.6 ns。YAP晶體...

有時線性吸收系數(shù)被質(zhì)量吸收系數(shù)微米=/d (d袋表密度)代替。因為質(zhì)量吸收系數(shù)與材料的晶體結(jié)構(gòu)和相態(tài)無關(guān)。與鹵素化合物晶體相比，氧化物晶體具有優(yōu)異的熱力學(xué)性質(zhì)和穩(wěn)定的化學(xué)性質(zhì)。因此，鈰離子摻雜的無機氧化物閃爍晶體，包括鋁酸鹽、硅酸鹽、硼酸鹽和磷酸鹽，已經(jīng)引起了極大的關(guān)注和光泛的研究。下表總結(jié)了鈰離子摻雜氧化物和硫化物閃爍晶體的基本閃爍特性。由表可知，大多數(shù)摻鈰離子的氧化物閃爍晶體具有高光輸出和快速衰減的特性，尤其是摻鈰離子的鋁酸鹽和硅酸鹽閃爍晶體具有誘人的閃爍特性，如Ce:YAP、Ce3360YAG、Ce:LSO和Ce3360Lyso，被認(rèn)為是新一代高性能無機閃爍晶體。通常高能射線與無機閃爍...

國外生長的YAP單晶已達到50毫米，長約150毫米，重約1380克。隨著生長技術(shù)的提高，中科院上海光學(xué)力學(xué)研究所已經(jīng)能夠生長出直徑為50 mm的大單晶，但形狀控制和質(zhì)量有待進一步提高。比較了不同價離子摻雜對Ce: YAP晶體閃爍性能的影響。結(jié)果表明，二價離子摻雜對Ce: YAP晶體的閃爍性能有很強的負(fù)面影響，而四價離子摻雜有助于提高Ce:Yap晶體的部分閃爍性能。還研究了錳離子摻雜對Ce: YAP晶體性能的影響。發(fā)現(xiàn)YAP基體中Mn離子和Ce離子之間存在明顯的能量轉(zhuǎn)移過程，Ce和Mn: YAP的衰變時間明顯短于Ce、Mn : YAP，其快、慢成分分別為10.8ns和34.6 ns。選用Mn ...

有時線性吸收系數(shù)被質(zhì)量吸收系數(shù)微米=/d (d袋表密度)代替。因為質(zhì)量吸收系數(shù)與材料的晶體結(jié)構(gòu)和相態(tài)無關(guān)。與鹵素化合物晶體相比，氧化物晶體具有優(yōu)異的熱力學(xué)性質(zhì)和穩(wěn)定的化學(xué)性質(zhì)。因此，鈰離子摻雜的無機氧化物閃爍晶體，包括鋁酸鹽、硅酸鹽、硼酸鹽和磷酸鹽，已經(jīng)引起了極大的關(guān)注和光泛的研究。下表總結(jié)了鈰離子摻雜氧化物和硫化物閃爍晶體的基本閃爍特性。由表可知，大多數(shù)摻鈰離子的氧化物閃爍晶體具有高光輸出和快速衰減的特性，尤其是摻鈰離子的鋁酸鹽和硅酸鹽閃爍晶體具有誘人的閃爍特性，如Ce:YAP、Ce3360YAG、Ce:LSO和Ce3360Lyso，被認(rèn)為是新一代高性能無機閃爍晶體。CeYAP作為一種高溫...

YAP晶體的生長過程：(1)籽晶：的選擇籽晶的走向和質(zhì)量直接影響直拉晶體的質(zhì)量。對于YAP單晶，由于其嚴(yán)重的各向異性，B軸的熱膨脹系數(shù)遠大于A軸和C軸(A:4.2 10-6 oc-1，B:11.7 10-6 oc-1，C:5.1 10-6 oc-1)，在生長過程中容易產(chǎn)生結(jié)構(gòu)應(yīng)力和相應(yīng)的熱應(yīng)力。這些熱應(yīng)力也為了減少這種影響，我們選擇了《100〉中的YAP 籽晶，〈010〉中的〈001〉中的〈101〉中的〈籽晶尺寸為8 50mm(2)熱場的選擇：由于YAP晶體熱膨脹系數(shù)和熱導(dǎo)率的軸向差異，除了選擇合適的籽晶外，選擇合適的溫度場環(huán)境更為重要。由于鈣鈦礦結(jié)構(gòu)的YAP晶體的孿晶習(xí)性很容易揭示...

在弱還原氣氛下生長的Ce:YAP晶體，發(fā)現(xiàn)自吸收得到有效緩解，2mm厚度晶體透過邊藍移近30nm，熒光激發(fā)的發(fā)光強度提高了50%以上。同時研究了還原氣氛生長對Ce:YAP晶體其他閃爍性能的影響。1．生長了不同價態(tài)離子摻雜的Ce:YAP晶體，以研究電荷補償效應(yīng)對Ce4+離子的作用。結(jié)果發(fā)現(xiàn)兩價離子對Ce:YAP晶體閃爍性能有很強的負(fù)面影響，四價離子則有于助提高晶體的部分閃爍性能。2．研究了Mn離子摻雜對Ce:YAP晶體性能的影響。發(fā)現(xiàn)YAP基質(zhì)中Ce，Mn之間存在明顯的能量轉(zhuǎn)移過程。由于存在Ce3+離子的非輻射躍遷，Ce,Mn:YAP的衰減時間的快慢成分均變?yōu)樵瓉淼囊话?，其中快成分?0ns左右...

為了了解過渡金屬摻雜對Ce: YAP自吸收可能產(chǎn)生的影響，我們對比了Cu(0.5%), Fe(0.5%)，Mn(0.5%) 等過渡金屬摻雜的純YAP晶體的透過譜。由此可見，Mn摻雜YAP在480nm處有明顯吸收峰，Cu 摻雜則在370nm左右存在吸收峰，F(xiàn)e摻雜YAP并將在下節(jié)討論。我們生長的Ce: YAP 在350nm到500nm范圍內(nèi)不存在額外吸收峰，少量過渡金屬離子的存在對吸收只會造成線性疊加影響, 且低濃度吸收并不足以造成Ce: YAP晶體的自吸收，因此過渡金屬離子污染造成Ce: YAP吸收帶紅移可能性不大。CeYAP晶體具有優(yōu)良的閃爍性能，其主要特點是光產(chǎn)額大，衰減時間短。安徽人工C...

Mn: YAP 和Ce, Mn: YAP 的熒光激發(fā)發(fā)射譜，714nm 和685nm發(fā)射峰為Mn4+ 離子 2E - 4A2 躍遷[113]。332 nm, 373 nm 和 480 nm ( λem=714nm) 分別屬于Mn4+離子的4A2→4T1 (4F), 4A2→4T1 (4P), 4A2→4T2 躍遷。Ce, Mn: YAP 晶體的Ce3+ 的發(fā)射峰在397nm，比Ce: YAP 晶體紅移了近30 nm，主要是Mn4+ 離子的吸收造成的。圖 4-49 中，Mn: YAP 和Ce, Mn: YAP在480 nm的吸收峰屬于Mn4+ 離子的4A2→4T2 躍遷，另從透過譜可知，Mn離子...

電子元器件行業(yè)規(guī)模不斷增長，國內(nèi)市場表現(xiàn)優(yōu)于國際市場，多個下游企業(yè)的應(yīng)用前景明朗，電子元器件行業(yè)具備廣闊的發(fā)展空間和增長潛力。閃爍過程的第四階段可以稱為遷移階段，因為遷移的電子激發(fā)并向發(fā)光中心轉(zhuǎn)移能量。通過電子空穴對與激子轉(zhuǎn)移能量是可能的。在第一種情況下，通過依次捕獲一個空穴和一個電子(電子復(fù)合發(fā)光)或者依次捕獲一個電子和空穴(空穴復(fù)合發(fā)光)來激發(fā)發(fā)光中心。比如堿鹵晶體中的Tl和Ag主要是通過電子復(fù)合發(fā)光。CeYAP晶體具有優(yōu)良的閃爍性能，其主要特點是光產(chǎn)額大，衰減時間短。河北專業(yè)CeYAP晶體直銷康普頓閃射過程中，電子與X射線或者其他高能射線發(fā)生彈性散射，使高能射線波長變長，是吸收輻射能的主...

據(jù)統(tǒng)計，目前，我國電子元器件加工產(chǎn)業(yè)總產(chǎn)值已占電子信息行業(yè)的五分之一，是我國電子信息行業(yè)發(fā)展的根本。汽車電子、互聯(lián)網(wǎng)應(yīng)用產(chǎn)品、移動通信、智慧家庭、5G、消費電子產(chǎn)品等領(lǐng)域成為中國電子元器件市場發(fā)展的源源不斷的動力，帶動了電子元器件的市場需求，也加快電子元器件更迭換代的速度，從下游需求層面來看，電子元器件市場的發(fā)展前景極為可觀?；仡欉^去一年國內(nèi)激光晶體，閃爍晶體，光學(xué)晶體，光學(xué)元件及生產(chǎn)加工產(chǎn)業(yè)運行情況，上半年市場低迷、部分外資企業(yè)產(chǎn)線轉(zhuǎn)移、中小企業(yè)經(jīng)營困難，開工不足等都是顯而易見的消極影響。CeYAP晶體具有優(yōu)良的閃爍性能，其主要特點是光產(chǎn)額大，衰減時間短。北京國產(chǎn)CeYAP晶體性能可以假設(shè)這...

近年來，Ce:YAG單晶薄膜和Ce:YAG陶瓷等閃爍體以其獨特的優(yōu)勢引起了人們的關(guān)注。硫化物閃爍晶體的帶隙較小，鈰離子摻雜的硫化物閃爍晶體也具有光衰減快、密度大的特點。例如Ce:Lu2S3晶體具有高光輸出(約30000光子/兆電子伏)、快速光衰減(約32納秒)、重密度(約6.25克/立方厘米)和高有效原子序數(shù)(Zeff=66.8)的特點。但是硫化物晶體也很難生長，不受人青睞。目前Ce:YAG高溫閃爍晶體已經(jīng)商業(yè)化，主要用于掃描電子顯微鏡(SEM)的顯示元件，其生長方法主要有直拉法和溫度梯度法。CeYAP晶體具有較高的能量分辨率。河北雙折射CeYAP晶體直銷發(fā)光是一種能量被物體吸收并轉(zhuǎn)化為光輻射...

兩項一般性意見如下：如上所述，快電子在非彈性散射過程中會損失能量。這是文學(xué)中常見的表達。但是，能量實際上并沒有損失，而是分布到了二次電子激發(fā)。閃爍體中真正的能量損失是由以下與閃爍競爭的過程引起的：點缺陷的形成、聲子，的產(chǎn)生、二次電子和光子從晶體中逃逸以及長期磷光發(fā)射。 過渡金屬摻雜對YAP晶體透過邊有哪些影響？CeYAG晶體脈沖X射線激發(fā)衰減時間？Ce: YAP晶體在弱還原氣氛中生長，發(fā)現(xiàn)自吸收得到有效0，熒光激發(fā)的發(fā)光強度突出提高。同時，研究了還原氣氛中生長對Ce: YAP晶體其他閃爍性能的影響。獲得大尺寸(直徑為2英寸至3英寸)晶體的生長工藝，使CeYAP晶體可應(yīng)用于更多的領(lǐng)域。安徽CeY...

無機閃爍晶體的性能表征？電子元器件是構(gòu)成電子信息系統(tǒng)的基本功能單元，是各種電子元件、器件、模塊、部件、組件的統(tǒng)稱，同時還涵蓋與上述電子元器件結(jié)構(gòu)與性能密切相關(guān)的封裝外殼、電子功能材料等。回顧過去一年國內(nèi)激光晶體，閃爍晶體，光學(xué)晶體，光學(xué)元件及生產(chǎn)加工產(chǎn)業(yè)運行情況，上半年市場低迷、部分外資企業(yè)產(chǎn)線轉(zhuǎn)移、中小企業(yè)經(jīng)營困難，開工不足等都是顯而易見的消極影響。但隨著激光晶體，閃爍晶體，光學(xué)晶體，光學(xué)元件及生產(chǎn)加工產(chǎn)業(yè)受到相關(guān)部門高度重視、下游企業(yè)與元器件產(chǎn)業(yè)的黏性增強、下游 5G 產(chǎn)業(yè)發(fā)展前景明朗等利好因素的驅(qū)使下，我國電子元器件行業(yè)下半年形勢逐漸好轉(zhuǎn)。CeYAP是一種性能優(yōu)良的閃爍晶體，它具有良好的...

上式(1.10)中的Wi是構(gòu)成晶體的原子I的重量百分比，Zi是構(gòu)成晶體的原子I的原子序數(shù)。入射到晶體中的光子和電子(或正電子)在晶體中經(jīng)過一定距離后能量下降到1/e。這個距離稱為晶體的輻射長度(通常表示為X0)。它袋表閃爍體對輻射的截止能力。從上面的定義可以得出結(jié)論：X0=1/ (1.11)可以看出，輻射長度(X0)與吸收系數(shù)()成反比，所以吸收系數(shù)越大。輻射長度越短。輻射長度可由以下公式近似表示：X0=180A/(Z2) (1.12)其中a為原子量，z為有效原子數(shù)，為密度。從這個公式可以看出，有效原子序數(shù)和密度越高，晶體的輻射長度越短。由于電磁量熱儀用閃爍晶體的長度一般為20 X0，因此使用...

紫外線照射對Ce: YAP晶體自吸收的影響，我們用8W的紫外燈功率和255nm的波長照射厚度為2mm、濃度為0.3%的Ce: YAP樣品。樣品輻照時間分別為15、30和60分鐘。從紫外輻射吸收光譜可以清楚地看出，隨著輻照時間的增加，Ce: YAP樣品的吸收邊發(fā)生紅移，樣品在254nm處的吸收系數(shù)也相應(yīng)增加。退火和輻照純度對YAP和Fe: YAP晶體吸收光譜的影響，據(jù)報道，F(xiàn)e3和Fe2離子分別在260納米和227納米附近有吸收[98，99]，純YAP在260納米附近也有吸收。為了了解255納米附近的吸收峰特性，我們生長并研究了純YAP晶體和濃度為0.2%的YAP:鐵。通過透射率的比較，我們粗略...

YAP晶體的生長過程：生長氣氛：由于采用中頻加熱方式，主要保溫材料為高熔點絕熱氧化物(氧化鋯、氧化鋁等)。)，雖然爐內(nèi)充滿高純氬氣體，但整個直拉法體系仍保持弱氧化，使Ce4離子含量增加。研究表明，Ce4離子對Ce3離子發(fā)光有猝滅作用。因此，在生長過程中，我們通常在惰性氣氛中生長，并試圖在弱還原氣氛中生長，其中惰性氣氛是高純氬氣體，弱還原氣氛是高純氬和高純氫的混合氣體(2-10%氫氣)。 不同氣氛生長Ce: YAP晶體Ce3+ 濃度有什么不同？YAP基體中Mn離子和Ce離子之間存在明顯的能量轉(zhuǎn)移過程。浙江雙摻CeYAP晶體定制鈰離子摻雜的高溫閃爍晶體具有高光輸出快衰減等閃爍特征，是無機閃爍晶體的...

隨著激光晶體，閃爍晶體，光學(xué)晶體，光學(xué)元件及生產(chǎn)加工產(chǎn)業(yè)受到相關(guān)部門高度重視、下游企業(yè)與元器件產(chǎn)業(yè)的黏性增強、下游 5G 產(chǎn)業(yè)發(fā)展前景明朗等利好因素的驅(qū)使下，我國電子元器件行業(yè)下半年形勢逐漸好轉(zhuǎn)。隨著我們過經(jīng)濟的飛速發(fā)展，脫貧致富，實現(xiàn)小康之路觸手可及。值得注意的是有限責(zé)任公司（自然）企業(yè)的發(fā)展，特別是近幾年，我國的電子企業(yè)實現(xiàn)了質(zhì)的飛躍。從電子元器件的外國采購在出售。電子元器件幾乎覆蓋了我們生活的各個方面，既包括電力、機械、交通、化工等傳統(tǒng)工業(yè)，也涵蓋航天、激光、通信、機器人、新能源等新興產(chǎn)業(yè)。晶體吸收高能射線后，晶體內(nèi)部產(chǎn)生大量的熱化電子空穴對。山西專業(yè)CeYAP晶體研發(fā)有人計算過YAP晶...

自從我們使用閃爍材料探測輻射以來，已經(jīng)將近一個世紀(jì)了。在本世紀(jì)，一些重要的閃爍材料因其商業(yè)應(yīng)用前景而得到廣泛應(yīng)用，或者因其優(yōu)異的性能而在科學(xué)研究中得到普遍關(guān)注和發(fā)展。CeYAG提拉法晶體生長的嗎？當(dāng)光線與閃爍晶體相互作用時，晶體中電子空穴對Neh的數(shù)量直接影響晶體的光輸出。在高能射線探測應(yīng)用中，經(jīng)常使用高密度無機閃爍晶體。因為高晶體密度可以減小探測器的尺寸。 山東生長CeYAP晶體YAP中形成色心的另一可能原因是晶體中存在雜質(zhì)離子.離子摻雜濃度、原料的純度以及生長工藝條件等是影響CeYAP晶體缺陷的主要原因。山西生長CeYAP晶體廠家在弱還原氣氛下生長的Ce:YAP晶體，發(fā)現(xiàn)自吸收得到有效緩解...

摻鈰高溫閃爍晶體是無機閃爍晶體的一個重要發(fā)展方向，其中鈰：YAP和鈰3360Yag是較好的晶體。隨著應(yīng)用要求的變化，閃爍晶體的尺寸越來越大，因此生長大尺寸的閃爍晶體變得更加重要。同時，國內(nèi)生長的Ce:YAP晶體自吸收現(xiàn)象普遍存在，導(dǎo)致無法有效提高出光量，其機理尚不清楚。為了有效提高Ce:YAP晶體的閃爍性能，解決其自吸收問題，提高其發(fā)光強度，重點研究了Ce:YAP晶體的自吸收機制。同時，為了獲得高發(fā)光效率的大尺寸Ce:YAG晶體，嘗試用溫度梯度法生長大尺寸Ce:YAG晶體，并探索了晶體的比較好熱處理條件。CeYAP高溫閃爍晶體具有良好的物化性能是無機閃爍晶體中較有優(yōu)勢的晶體。山東國產(chǎn)CeYAP...

無機閃爍晶體在將高能射線或粒子轉(zhuǎn)化為低能光子的過程中，會發(fā)生一系列微觀過程，如一級和二級電離和激發(fā)、電子-空穴、光子和激子的遷移、電子與電子、電子與聲子(矩陣)之間的弛豫、電子-空穴對的俘獲、電子-空穴對與熒光中心之間的能量轉(zhuǎn)移等。當(dāng)經(jīng)歷電離事件時，閃爍體處于從非平衡狀態(tài)到平衡狀態(tài)的弛豫過程中。大量的熱化電子空穴對和這些電子產(chǎn)生的相當(dāng)一部分低能激子0終會轉(zhuǎn)化為發(fā)射光子，從高能輻射到紫外或可見光光子的過程就是閃爍過程。隨著Ce3+ 離子濃度增加，CeYAP晶體的吸收邊發(fā)生紅移，造成了樣品的自吸收。廣東CeYAP晶體參數(shù)不同退火條件下Ce: YAP晶體自吸收的比較，為了比較不同退火條件下退火對自吸...

鈰釔鋁石榴石(TGT)閃爍晶體的缺陷及其對晶體發(fā)光性能和閃爍時間的影響。生長CeYAP晶體推薦貨源閃爍材料的發(fā)展歷史可以大致分為幾個階段？首先，用提拉法生長大尺寸Ce: YAP晶體，包括改進生長設(shè)備和調(diào)整生長工藝。因為以前的生長工藝不適合生長大尺寸的Ce: YAP晶體，尤其是晶體形狀、肩部和等徑部分不能得到有效控制，影響晶體質(zhì)量。為了解決存在的問題，我們改進了晶體生長爐的功率控制系統(tǒng)和重量傳感系統(tǒng)，重新設(shè)計了坩堝和保溫罩，并對溫度場過程進行了適當(dāng)?shù)奶剿?。Ce:YAP晶體的吸收光譜和熒光光譜受不同的生長方法和不同的后熱處理工藝的影響很大。湖北專業(yè)CeYAP晶體批發(fā)閃爍材料的發(fā)展歷史可以大致分為幾...

據(jù)統(tǒng)計，目前，我國電子元器件加工產(chǎn)業(yè)總產(chǎn)值已占電子信息行業(yè)的五分之一，是我國電子信息行業(yè)發(fā)展的根本。汽車電子、互聯(lián)網(wǎng)應(yīng)用產(chǎn)品、移動通信、智慧家庭、5G、消費電子產(chǎn)品等領(lǐng)域成為中國電子元器件市場發(fā)展的源源不斷的動力，帶動了電子元器件的市場需求，也加快電子元器件更迭換代的速度，從下游需求層面來看，電子元器件市場的發(fā)展前景極為可觀?；仡欉^去一年國內(nèi)激光晶體，閃爍晶體，光學(xué)晶體，光學(xué)元件及生產(chǎn)加工產(chǎn)業(yè)運行情況，上半年市場低迷、部分外資企業(yè)產(chǎn)線轉(zhuǎn)移、中小企業(yè)經(jīng)營困難，開工不足等都是顯而易見的消極影響。結(jié)果表明，還原Ce4離子可以被Ce: YAP晶體的自吸收，Ce4離子可以明顯猝滅Ce3離子的發(fā)光。四川進...

為了研究過渡金屬可能對Ce: YAP晶體性能的影響，我們生長了Mn 離子摻雜的Ce: YAP 晶體，并與Mn: YAP和Ce: YAP 晶體進行了比較。選用Mn 離子一是由于Mn 對YAP 晶體的吸收譜影響很大；二是M. A. Noginov等人將Ce離子摻入Mn: YAP中來獲得三價Mn離子[113]，Ce3+離子可以為Mn4+ 離子提供一個電子，使其變成三價：Ce3+ + Mn4+ → Ce4+ + Mn3+，正好研究Mn 對Ce離子價態(tài)變化的影響；而且Mn離子和Ce離子之間可能存在能量傳遞過程，對研究Ce: YAP晶體的閃爍性能會有一些參考作用。有觀點認(rèn)為YAP晶體的本征紫外發(fā)光中心與反...

從Ce3+ 離子2F7/2和2F5/2 態(tài)能級在YAP 晶體中的能級分裂看，2F7/2能級在晶體場中分裂的子能級寬度對應(yīng)波數(shù)范圍為3250 cm-1到2085cm-1, 2F5/2 態(tài)能級分裂的子能級寬度范圍為500 cm-1左右， 5d比較低能級的對應(yīng)波數(shù)為33000 cm-1?？梢缘玫紺e3+ 在YAP基質(zhì)中激發(fā)譜(d-f 躍遷)的比較低能級躍遷的波長為336.1nm（29750 cm-1），因此316nm的激發(fā)峰成分雖然發(fā)光波長比較偏紅光方向，但仍在允許范圍內(nèi)。當(dāng)激發(fā)波長從294nm（34013cm-1）到316nm（31645 cm-1）變化時，各子能級都有可能被激發(fā)，且不同能量激發(fā)時...

紫外輻照對Ce:YAP晶體自吸收有影響嗎？摻鈰高溫閃爍晶體是無機閃爍晶體的一個重要發(fā)展方向，其中鈰：YAP和鈰3360Yag是較好的晶體。隨著應(yīng)用要求的變化，閃爍晶體的尺寸越來越大，因此生長大尺寸的閃爍晶體變得更加重要。同時，國內(nèi)生長的Ce:YAP晶體自吸收現(xiàn)象普遍存在，導(dǎo)致無法有效提高出光量，其機理尚不清楚。為了有效提高Ce:YAP晶體的閃爍性能，解決其自吸收問題，提高其發(fā)光強度，重點研究了Ce:YAP晶體的自吸收機制。同時，為了獲得高發(fā)光效率的大尺寸Ce:YAG晶體，嘗試用溫度梯度法生長大尺寸Ce:YAG晶體，并探索了晶體的比較好熱處理條件。本文主要討論了大尺寸Ce:YAP晶體的生長和自吸...

電子元器件行業(yè)規(guī)模不斷增長，國內(nèi)市場表現(xiàn)優(yōu)于國際市場，多個下游企業(yè)的應(yīng)用前景明朗，電子元器件行業(yè)具備廣闊的發(fā)展空間和增長潛力。閃爍過程的第四階段可以稱為遷移階段，因為遷移的電子激發(fā)并向發(fā)光中心轉(zhuǎn)移能量。通過電子空穴對與激子轉(zhuǎn)移能量是可能的。在第一種情況下，通過依次捕獲一個空穴和一個電子(電子復(fù)合發(fā)光)或者依次捕獲一個電子和空穴(空穴復(fù)合發(fā)光)來激發(fā)發(fā)光中心。比如堿鹵晶體中的Tl和Ag主要是通過電子復(fù)合發(fā)光。獲得大尺寸(直徑為2英寸至3英寸)晶體的生長工藝，使CeYAP晶體可應(yīng)用于更多的領(lǐng)域。青海國產(chǎn)CeYAP晶體現(xiàn)貨直供同濃度Ce: YAP的熒光光譜。在可見光(300納米)激發(fā)下，不同濃度Ce...

Ce:YAP晶體生長原料需要哪些？無機閃爍晶體在將高能射線或粒子轉(zhuǎn)化為低能光子的過程中，會發(fā)生一系列微觀過程，如一級和二級電離和激發(fā)、電子-空穴、光子和激子的遷移、電子與電子、電子與聲子(矩陣)之間的弛豫、電子-空穴對的俘獲、電子-空穴對與熒光中心之間的能量轉(zhuǎn)移等。當(dāng)經(jīng)歷電離事件時，閃爍體處于從非平衡狀態(tài)到平衡狀態(tài)的弛豫過程中。大量的熱化電子空穴對和這些電子產(chǎn)生的相當(dāng)一部分低能激子0終會轉(zhuǎn)化為發(fā)射光子，從高能輻射到紫外或可見光光子的過程就是閃爍過程。YAP晶體生長氣氛：由于采用中頻加熱方式，主要保溫材料為高熔點絕熱氧化物(氧化鋯、氧化鋁等)。重慶雙折射CeYAP晶體公司無機閃爍晶體的閃爍機理閃...

Mn: YAP 和Ce, Mn: YAP 的熒光激發(fā)發(fā)射譜，714nm 和685nm發(fā)射峰為Mn4+ 離子 2E - 4A2 躍遷[113]。332 nm, 373 nm 和 480 nm ( λem=714nm) 分別屬于Mn4+離子的4A2→4T1 (4F), 4A2→4T1 (4P), 4A2→4T2 躍遷。Ce, Mn: YAP 晶體的Ce3+ 的發(fā)射峰在397nm，比Ce: YAP 晶體紅移了近30 nm，主要是Mn4+ 離子的吸收造成的。圖 4-49 中，Mn: YAP 和Ce, Mn: YAP在480 nm的吸收峰屬于Mn4+ 離子的4A2→4T2 躍遷，另從透過譜可知，Mn離子...