卷繞鍍膜機(jī)配套有多種薄膜質(zhì)量檢測技術(shù)。膜厚檢測是關(guān)鍵環(huán)節(jié)之一,常用的有光學(xué)干涉法和石英晶體微天平法。光學(xué)干涉法通過測量光在薄膜表面反射和干涉形成的條紋變化來精確計(jì)算膜厚,其精度可達(dá)到納米級(jí),適用于透明薄膜的厚度測量。石英晶體微天平法則是利用石英晶體振蕩頻率隨鍍...
光學(xué)鍍膜機(jī)主要基于物理了氣相沉積(PVD)或化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù)來實(shí)現(xiàn)光學(xué)薄膜的制備。在 PVD 過程中,常見的有真空蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍膜。真空蒸發(fā)鍍膜是將鍍膜材料在高真空環(huán)境下加熱至蒸發(fā)狀態(tài),蒸發(fā)的原子或分子在基底表面凝結(jié)形成薄膜。例如,鍍制金屬膜時(shí),將...