高溫接觸角測(cè)量?jī)x是一種特殊的儀器，能夠在高溫條件下測(cè)量液滴與固體表面之間的接觸角。這種儀器在化學(xué)、材料科學(xué)、醫(yī)藥等領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用，尤其是在研究高溫化學(xué)反應(yīng)和材料性能方面。高溫接觸角測(cè)量?jī)x通常由以下幾個(gè)部分組成：高溫樣品臺(tái)、光學(xué)系統(tǒng)和液滴控制器。高溫樣品臺(tái)用于...

潤(rùn)濕角測(cè)量?jī)x是一種用于測(cè)量液體在固體表面上的接觸角的儀器。接觸角是衡量液體在固體表面上的潤(rùn)濕性能的重要參數(shù)，對(duì)于工業(yè)生產(chǎn)和科學(xué)研究具有重要的意義。潤(rùn)濕角測(cè)量?jī)x可以用于研究液體在固體表面的潤(rùn)濕性能、表面能、吸附等特性，廣泛應(yīng)用于化學(xué)、材料科學(xué)、醫(yī)藥等領(lǐng)域。潤(rùn)濕角...

對(duì)于半導(dǎo)體行業(yè)的人來說，快速熱處理(RTP)被認(rèn)為是生產(chǎn)半導(dǎo)體的一個(gè)重要步驟。在這種制造工藝中，硅晶圓在幾秒鐘或更短的時(shí)間內(nèi)被加熱到超過1000°C的溫度。這是通過使用激光器或燈作為熱源來實(shí)現(xiàn)的。然后，硅晶圓的溫度被慢慢降低，以防止因熱沖擊而可能發(fā)生的任何變形...

高溫接觸角測(cè)量?jī)x的精確性是其主要價(jià)值所在。在極端溫度條件下，測(cè)量誤差的微小變化都可能對(duì)結(jié)果產(chǎn)生重大影響。因此，確保測(cè)量結(jié)果的準(zhǔn)確性是研發(fā)此類儀器的首要任務(wù)。這要求儀器在設(shè)計(jì)和制造過程中必須嚴(yán)格遵循相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)和規(guī)范，確保每一個(gè)部件都達(dá)到比較高的質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)。然而，高溫...

光刻膠是芯片制造過程中必不可少的材料之一，它被應(yīng)用于半導(dǎo)體工藝中，用于圖形轉(zhuǎn)移和微細(xì)結(jié)構(gòu)制作。在光刻膠的研發(fā)和生產(chǎn)過程中，了解其表面特性非常重要，包括表面張力、潤(rùn)濕性以及接觸角等參數(shù)。視頻光學(xué)接觸角測(cè)量?jī)x利用先進(jìn)的視頻成像技術(shù)和光學(xué)原理來測(cè)量樣品表面與液體滴落...

傾斜型接觸角測(cè)量?jī)x，作為一種先進(jìn)的表面分析儀器，其基本原理在于通過改變固體表面的傾斜角度，來測(cè)量液體與固體表面之間的接觸角。這種測(cè)量方式相較于傳統(tǒng)的靜態(tài)接觸角測(cè)量，更能模擬實(shí)際應(yīng)用中液體在固體表面上的動(dòng)態(tài)行為。傾斜型接觸角測(cè)量?jī)x的特點(diǎn)主要體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面：首...

接觸角測(cè)量?jī)x主要用于測(cè)量液體對(duì)固體的接觸角，即液體對(duì)固體的浸潤(rùn)性，該儀器能測(cè)量各種液體對(duì)各種材料的接觸角。該儀器對(duì)石油、印染、醫(yī)藥、噴涂、選礦等行業(yè)的科研生產(chǎn)有非常重要的作用；通過測(cè)量接觸角計(jì)算表面張力、利用接觸角來判斷材料親疏水性，以便確認(rèn)物體表面的處理效果...

接觸角測(cè)量?jī)x的工作原理主要基于楊-拉普拉斯（Young-Laplace）方程，該方程描述了液體在固體表面上形成接觸角的力學(xué)平衡。測(cè)量?jī)x通過測(cè)量液滴在固體表面上的接觸角大小來評(píng)估液體的濕潤(rùn)性能、界面張力等參數(shù)。具體來說，接觸角測(cè)量?jī)x將一定體積的液體滴在待測(cè)表面上...

SiC器件制造過程主要包括“光刻、清洗、摻雜、蝕刻、成膜、減薄”等工藝，其中，離子注入工藝是SiC摻雜的重要步驟，以滿足SiC器件耐高壓、大電流功能的實(shí)現(xiàn)。然而離子注入后，碳化硅材料的晶格損傷必須通過退火工藝進(jìn)行修復(fù)。在SiC材料晶體生長(zhǎng)過程中，退火工藝可以使...

快速退火爐的詳細(xì)參數(shù)根據(jù)制造商和型號(hào)的不同有所差異，溫度范圍：快速退火爐通常能夠提供廣的溫度范圍，一般從幾百攝氏度到數(shù)千℃不等，具體取決于應(yīng)用需求，能夠達(dá)到所需的處理溫度范圍升溫速率：指系統(tǒng)加熱樣本的速度，通常以℃秒或℃/分鐘為單位。升溫速率的選擇取決于所需的...

真空等離子清洗機(jī)是一種應(yīng)用于表面處理領(lǐng)域的高級(jí)清洗設(shè)備，其通過利用等離子體在真空環(huán)境中產(chǎn)生的化學(xué)反應(yīng)和物理效應(yīng)，實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面的清洗和改性。真空等離子清洗機(jī)的工作原理真空等離子清洗機(jī)是在真空環(huán)境中工作的設(shè)備，其主要由真空室、氣體供應(yīng)系統(tǒng)、等離子源、抽氣系統(tǒng)和控...

在線式真空等離子清洗機(jī)的優(yōu)勢(shì)：載臺(tái)升降可自由按料盒每層的間距設(shè)定；載臺(tái)實(shí)現(xiàn)寬度定位，電機(jī)根據(jù)程序參數(shù)進(jìn)行料盒寬度調(diào)節(jié)；推料舍片具有預(yù)防卡料及檢測(cè)功能，根據(jù)產(chǎn)品寬度切換配方進(jìn)行傳送；同時(shí)每次清洗4片，雙工位腔體平臺(tái)交替，實(shí)現(xiàn)清洗與...

在微電子封裝領(lǐng)域，Plasma封裝等離子清洗機(jī)發(fā)揮著至關(guān)重要的作用。隨著集成電路技術(shù)的不斷發(fā)展，芯片尺寸不斷縮小，對(duì)封裝過程中的表面清潔度要求也越來越高。傳統(tǒng)的濕法清洗方法難以徹底去除芯片表面的微小顆粒和有機(jī)物殘留，而Plasma封裝等離子清洗機(jī)則能夠在分子級(jí)...

等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)3種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下可以以第四中狀態(tài)存在，如太陽表面的物質(zhì)和地球大氣中電離層中的物質(zhì)。這類物質(zhì)所處的狀態(tài)稱為等離子體狀態(tài)，又稱為物質(zhì)的第四態(tài)。等離子體中存在下列物質(zhì)：處于高速運(yùn)動(dòng)狀態(tài)的電子;...

等離子體表面處理機(jī)也叫等離子清洗機(jī)、等離子表面處理機(jī)、plasma清洗機(jī)；用戶對(duì)它的稱呼非常多，它實(shí)際功能在于對(duì)物體表面處理，清洗、改性、刻蝕等；解決用戶不同的表面處理需求。表面活化：設(shè)備生產(chǎn)的等離子體內(nèi)有大量離子、激發(fā)態(tài)分子、自由基等多種活性粒子，通過物理及...

半導(dǎo)體快速退火爐（RTP）是一種特殊的加熱設(shè)備，能夠在短時(shí)間內(nèi)將半導(dǎo)體材料迅速加熱到高溫，并通過快速冷卻的方式使其達(dá)到非常高的溫度梯度?？焖偻嘶馉t在半導(dǎo)體材料制造中廣泛應(yīng)用，如CMOS器件后端制程、GaN薄膜制備、SiC材料晶體生長(zhǎng)以及拋光后退火等。半導(dǎo)體快速...

等離子清洗機(jī)在大規(guī)模集成電路和分立器件行業(yè)中的應(yīng)用在大規(guī)模集成電路和分立器件行業(yè)中，等離子體清洗一般應(yīng)用于以下幾個(gè)關(guān)鍵步驟中：1、去膠，用氧的等離子體對(duì)硅片進(jìn)行處理，去除光刻膠；2、金屬化前器件襯底的等離子體清洗；3、混合電路粘片前的等離子體清洗；4、鍵合前的...

快速退火爐是一種前沿的熱處理設(shè)備，可以對(duì)金屬材料進(jìn)行快速退火處理。它的工作原理是通過控制加熱溫度和保持時(shí)間，使金屬材料的組織結(jié)構(gòu)得到調(diào)整和優(yōu)化。快速退火爐具有高效、節(jié)能、自動(dòng)化程度高等特點(diǎn)，被廣泛應(yīng)用于各種工業(yè)領(lǐng)域?？焖偻嘶馉t采用了前沿的加熱技術(shù)，能夠快速將金...

等離子處理機(jī)的應(yīng)用領(lǐng)域：它具有廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域，主要包括以下幾個(gè)方面：表面處理：可以用于金屬、陶瓷、塑料等材料的清洗、去污、活化、刻蝕等表面處理過程，提高材料的表面性能。材料改性：可以用于金屬材料的滲碳、滲氮、滲硼等表面改性過程，提高金屬材料的耐磨性、耐腐蝕性等...

Plasma封裝等離子清洗機(jī)，顧名思義，其主要在于利用等離子體（Plasma）這一高能態(tài)物質(zhì)對(duì)材料表面進(jìn)行深度清潔與改性。在真空環(huán)境下，通過高頻電場(chǎng)激發(fā)工藝氣體，使其電離形成等離子體。這些等離子體中的高能粒子、自由基等活性物質(zhì)，能夠迅速與材料表面的污染物發(fā)生反...

快速退火爐是一種前沿的熱處理設(shè)備，可以對(duì)金屬材料進(jìn)行快速退火處理。它的工作原理是通過控制加熱溫度和保持時(shí)間，使金屬材料的組織結(jié)構(gòu)得到調(diào)整和優(yōu)化?？焖偻嘶馉t具有高效、節(jié)能、自動(dòng)化程度高等特點(diǎn)，被廣泛應(yīng)用于各種工業(yè)領(lǐng)域。快速退火爐采用了前沿的加熱技術(shù)，能夠快速將金...

什么是等離子體？等離子體（plasma）是由自由電子和帶電離子為主要成分的物資狀態(tài)。被稱為物資的第四態(tài)。如何產(chǎn)生等離子體？通常我們接觸到的等離子有三種方式：高溫（燃燒）、高壓（閃電）或者高頻、高壓源（等離子電源）下產(chǎn)生。等離子體在處理固體物質(zhì)的時(shí)候，會(huì)有固體物...

等離子清洗機(jī)在處理樣品表面時(shí)，不會(huì)對(duì)樣品造成損傷，而且不會(huì)產(chǎn)生有害的廢液或廢氣，是一種環(huán)保、安全的表面處理方法。同時(shí)，等離子清洗機(jī)還具有高效、快速、均勻等特點(diǎn)，可以有效地提高表面的附著力和親水性，從而使得涂層更加均勻、牢固。等離子清洗機(jī)在各個(gè)領(lǐng)域都有廣泛的應(yīng)用...

接觸角是指液體在固體表面上形成的液滴與固體表面之間的夾角，是衡量表面潤(rùn)濕性能的關(guān)鍵參數(shù)。國(guó)產(chǎn)接觸角測(cè)量?jī)x通過先進(jìn)的圖像處理技術(shù)和精密的機(jī)械結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，實(shí)現(xiàn)了對(duì)接觸角的快速、準(zhǔn)確測(cè)量。在硬件方面，國(guó)產(chǎn)接觸角測(cè)量?jī)x采用了高分辨率的攝像頭和精密的光學(xué)系統(tǒng)，確保了測(cè)量結(jié)...

在實(shí)際測(cè)量中，液體樣品在測(cè)試過程中，經(jīng)過的時(shí)間不同擬合的變化。理想情況下，通過自動(dòng)生成的基線繪制處觀圖，來獲得線性關(guān)系。根據(jù)該線坡度計(jì)算接觸角和入滲速率。此外，為了計(jì)算接觸角，除了液體表面張力和粘度值外，還需要填充粉末的毛細(xì)管半徑值。該毛細(xì)管半徑值通過測(cè)量粉末...

表面自由能是與固體粘附力的重要變量之一。具有高表面自由能的固體（如金屬）通常更易于涂覆或粘合，對(duì)于具有低表面自由能的材料（特別是塑料），經(jīng)常用電暈、等離子處理、火焰處理和化學(xué)處理等方法增加其表面自由能?？筛鶕?jù)幾種液體的接觸角值測(cè)定固體的表面自由能，然后通過分別...

高溫環(huán)境對(duì)測(cè)量?jī)x器的穩(wěn)定性和耐用性提出了巨大的挑戰(zhàn)。在高溫下，材料的熱膨脹、氧化等物理和化學(xué)變化都可能對(duì)測(cè)量結(jié)果產(chǎn)生影響。為了克服這些挑戰(zhàn)，高溫接觸角測(cè)量?jī)x采用了多種先進(jìn)的技術(shù)手段。例如，通過選用耐高溫材料制作儀器的關(guān)鍵部件，提高儀器的耐高溫性能；通過優(yōu)化溫控...

SDC-100接觸角表面張力儀是一種用于測(cè)量液體表面張力的精密儀器，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、測(cè)量準(zhǔn)確可靠、操作簡(jiǎn)易。從液體在固體表面的接觸角、潤(rùn)濕性的簡(jiǎn)單測(cè)量，到固體表面自由能的計(jì)算分析，是一款高性價(jià)比的入門型接觸角、表面自由能測(cè)量設(shè)備。晟鼎接觸角測(cè)量?jī)x秉承了簡(jiǎn)單且標(biāo)準(zhǔn)的結(jié)...

在芯片封裝技術(shù)中，等離子體清洗已成為提高成品率的必由之路。先進(jìn)的倒裝芯片設(shè)備在市場(chǎng)上越來越突出，微波等離子體工藝在穿透模具下面的微小間隙方面。所有表面，無論模具下的體積大小，都被完全調(diào)節(jié)。達(dá)因特生產(chǎn)的等離子體清洗機(jī)都能很好的處理，提供粘合性和顯著提高的粘附速度...

封裝過程中的污染物，可以通過離子清洗機(jī)處理，它主要是通過活性等離子體對(duì)材料表面進(jìn)行物理轟擊或化學(xué)反應(yīng)來去除材料表面污染，但射頻等離子技術(shù)因處理溫度、等離子密度等技術(shù)因素，已無法滿足先進(jìn)封裝的技術(shù)需求，因此，更推薦大家使用微波等離子清洗技術(shù)~微波等離子清洗機(jī)的優(yōu)...