廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，主要涵蓋厚板、負(fù)性、正性、納米壓印及光刻膠等類別，以滿足不同領(lǐng)域的需求。 厚板光刻膠：JT-3001 型號(hào)，具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好，符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn)，保質(zhì)期 1 年。適用于對(duì)精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝，如特定電路板制造。 負(fù)性光刻膠 SU-3 負(fù)性光刻膠：分辨率優(yōu)異，對(duì)比度良好，曝光靈敏度高，光源適應(yīng)，重量 100g。常用于對(duì)曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域。 負(fù)性光刻膠 JT-1000：有 1L 和 100g 兩種規(guī)格，具有優(yōu)異的分辨率、良...

作為深耕半導(dǎo)體材料領(lǐng)域二十余年的綜合性企業(yè)，廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司始終將環(huán)保理念融入產(chǎn)品研發(fā)與生產(chǎn)全流程。公司位于東莞松山湖產(chǎn)業(yè)集群，依托區(qū)域產(chǎn)業(yè)鏈優(yōu)勢(shì)，持續(xù)推出符合國(guó)際環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體材料解決方案。 公司在錫膏、焊片等產(chǎn)品中采用無(wú)鹵無(wú)鉛配方，嚴(yán)格遵循 RoHS 指令要求，避免使用有害物質(zhì)。以錫膏為例，其零鹵素配方通過(guò)第三方機(jī)構(gòu)認(rèn)證，不僅減少了電子產(chǎn)品廢棄后的環(huán)境負(fù)擔(dān)，還提升了焊接可靠性，適用于新能源汽車、精密電子設(shè)備等領(lǐng)域。同時(shí)，納米壓印光刻膠與 LCD 光刻膠的生產(chǎn)過(guò)程中，公司通過(guò)優(yōu)化原料配比，減少揮發(fā)性有機(jī)物（VOCs）排放，確保產(chǎn)品符合歐盟 REACH 法規(guī)...

吉田半導(dǎo)體獲評(píng) "專精特新" 企業(yè)，行業(yè)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)，以技術(shù)創(chuàng)新與標(biāo)準(zhǔn)化生產(chǎn)為，吉田半導(dǎo)體榮獲 "廣東省專精特新企業(yè)" 稱號(hào)，樹(shù)立行業(yè)。 憑借在光刻膠領(lǐng)域的表現(xiàn)，吉田半導(dǎo)體獲評(píng) "廣東省專精特新企業(yè)"" "，承擔(dān)多項(xiàng)國(guó)家 02 專項(xiàng)課題。公司主導(dǎo)制定《半導(dǎo)體光刻膠用樹(shù)脂技術(shù)規(guī)范》等行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，推動(dòng)國(guó)產(chǎn)材料標(biāo)準(zhǔn)化進(jìn)程。未來(lái)，吉田半導(dǎo)體將繼續(xù)以" 中國(guó)半導(dǎo)體材料方案提供商 "為愿景，深化技術(shù)研發(fā)與市場(chǎng)拓展，為全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展貢獻(xiàn)" 中國(guó)力量 "。吉田半導(dǎo)體光刻膠，45nm 制程驗(yàn)證，國(guó)產(chǎn)替代方案!吉林紫外光刻膠工廠 廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司成立于 2023 年，總部位于東莞松山湖經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)...

光刻膠的工作原理： 1. 涂覆與曝光：在基底（如硅片、玻璃、聚合物）表面均勻涂覆光刻膠，通過(guò)掩膜（或直接電子束掃描）對(duì)特定區(qū)域曝光。 2. 化學(xué)變化：曝光區(qū)域的光刻膠發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)（正性膠曝光后溶解，負(fù)性膠曝光后交聯(lián)不溶）。 3. 顯影與刻蝕：溶解未反應(yīng)的部分，留下圖案化的膠層，作為后續(xù)刻蝕或沉積的掩模，將圖案轉(zhuǎn)移到基底上。 在納米技術(shù)中，關(guān)鍵挑戰(zhàn)是突破光的衍射極限（λ/2），因此需依賴高能束曝光技術(shù)（如電子束光刻、極紫外EUV光刻）和高性能光刻膠（高分辨率、低缺陷）。 吉田半導(dǎo)體實(shí)現(xiàn)光刻膠技術(shù)突破，為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自...

技術(shù)挑戰(zhàn)與發(fā)展趨勢(shì) 更高分辨率需求： ? EUV光刻膠需解決“線邊緣粗糙度（LER）”問(wèn)題（目標(biāo)＜5nm），通過(guò)納米顆粒分散技術(shù)或新型聚合物設(shè)計(jì)改善。 缺陷控制： ? 半導(dǎo)體級(jí)正性膠要求金屬離子含量＜1ppb，顆粒（＞50nm）＜1個(gè)/mL，需優(yōu)化提純工藝（如多級(jí)過(guò)濾+真空蒸餾）。 國(guó)產(chǎn)化突破： ? 國(guó)內(nèi)企業(yè)（如上海新陽(yáng)、南大光電、容大感光）已在KrF/ArF膠實(shí)現(xiàn)批量供貨，但EUV膠仍被日本JSR、美國(guó)陶氏、德國(guó)默克壟斷，需突破樹(shù)脂合成、PAG純度等瓶頸。 ...

定義與特性 負(fù)性光刻膠是一種在曝光后，未曝光區(qū)域會(huì)溶解于顯影液的光敏材料，形成與掩膜版（Mask）圖案相反的圖形。與正性光刻膠相比，其主要特點(diǎn)是耐蝕刻性強(qiáng)、工藝簡(jiǎn)單、成本低，但分辨率較低（通常≥1μm），主要應(yīng)用于對(duì)精度要求相對(duì)較低、需要厚膠或高耐腐蝕性的場(chǎng)景。 化學(xué)組成與工作原理 主要成分 基體樹(shù)脂： ? 早期以聚異戊二烯橡膠（天然或合成）為主，目前常用環(huán)化橡膠（Cyclized Rubber）或聚乙烯醇肉桂酸酯，提供膠膜的機(jī)械強(qiáng)度和耐蝕刻性。 光敏劑： ...

研發(fā)投入的“高門檻” 一款KrF光刻膠的研發(fā)費(fèi)用約2億元，而國(guó)際巨頭年研發(fā)投入超10億美元。國(guó)內(nèi)企業(yè)如彤程新材2024年半導(dǎo)體光刻膠業(yè)務(wù)營(yíng)收只5.4億元，研發(fā)投入占比不足15%，難以支撐長(zhǎng)期技術(shù)攻關(guān)。 2. 價(jià)格競(jìng)爭(zhēng)的“雙重?cái)D壓” 國(guó)內(nèi)PCB光刻膠價(jià)格較國(guó)際低30%，但半導(dǎo)體光刻膠因性能差距，價(jià)格為進(jìn)口產(chǎn)品的70%，而成本卻高出20%。例如，國(guó)產(chǎn)ArF光刻膠售價(jià)約150萬(wàn)元/噸，而日本同類產(chǎn)品為120萬(wàn)元/噸，且性能更優(yōu)。 突破路徑與未來(lái)展望 原材料國(guó)產(chǎn)化攻堅(jiān)：聚焦樹(shù)脂單體合成、光酸純化等關(guān)鍵環(huán)節(jié)，推動(dòng)八億時(shí)空、...

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司憑借技術(shù)創(chuàng)新與質(zhì)量?jī)?yōu)勢(shì)，在半導(dǎo)體材料行業(yè)占據(jù)重要地位。公司聚焦光刻膠、電子膠、錫膏等產(chǎn)品，其中納米壓印光刻膠可耐受 250℃高溫及強(qiáng)酸強(qiáng)堿環(huán)境，適用于高精度納米結(jié)構(gòu)制造；LCD 光刻膠以高穩(wěn)定性和精細(xì)度成為顯示面板行業(yè)的推薦材料。此外，公司還提供焊片、靶材等配套材料，滿足客戶多元化需求。 在技術(shù)層面，吉田半導(dǎo)體通過(guò)自主研發(fā)與國(guó)際合作結(jié)合，持續(xù)優(yōu)化生產(chǎn)工藝，實(shí)現(xiàn)全流程自動(dòng)化控制。其生產(chǎn)基地配備先進(jìn)設(shè)備，并嚴(yán)格執(zhí)行國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)，確保產(chǎn)品性能達(dá)到國(guó)際水平。同時(shí)，公司注重人才培養(yǎng)與引進(jìn)，匯聚化工、材料學(xué)等領(lǐng)域的專業(yè)團(tuán)隊(duì)，為技術(shù)創(chuàng)新提供堅(jiān)實(shí)支撐。未來(lái)，吉田半導(dǎo)體將繼續(xù)以...

光刻膠系列： 厚板光刻膠 JT - 3001，具備優(yōu)異分辨率、感光度和抗深蝕刻性能，符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn)，保質(zhì)期 1 年； 水油光刻膠 SR - 3308，容量 5L；SU - 3 負(fù)性光刻膠，分辨率優(yōu)異，對(duì)比度良好，曝光靈敏度高，光源適應(yīng)，重量 100g； 液晶平板顯示器負(fù)性光刻膠 JT - 1000，有 1L 裝和 100g 裝兩種規(guī)格，分辨率高，準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性好； JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠，耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿，耐高溫達(dá) 250°C，長(zhǎng)期可靠性高，粘接強(qiáng)度高，重量 100g； LCD 正性光刻膠 YK - 200，具有較大曝光、高分辨率、良好涂...

納米制造與表面工程 ? 納米結(jié)構(gòu)模板：作為納米壓印光刻（NIL）的母版制備材料，通過(guò)電子束光刻膠寫(xiě)出高精度納米圖案（如50nm以下的柱陣列、孔陣列），用于批量復(fù)制微流控芯片或柔性顯示基板。 ? 表面功能化：在基底表面構(gòu)建納米級(jí)粗糙度（如仿生荷葉超疏水表面）或化學(xué)圖案（引導(dǎo)細(xì)胞定向生長(zhǎng)的納米溝槽），用于生物醫(yī)學(xué)或能源材料（如電池電極的納米陣列結(jié)構(gòu)）。 量子技術(shù)與精密測(cè)量 ? 超導(dǎo)量子比特：在鈮酸鋰或硅基底上，通過(guò)光刻膠定義納米級(jí)約瑟夫森結(jié)陣列，構(gòu)建量子電路。 ? 納米傳感器：制備納米級(jí)懸臂梁（表面鍍光刻膠圖案化的金...

吉田半導(dǎo)體水性感光膠 JT-1200：水油兼容，鋼片加工精度 ±5μm JT-1200 水性感光膠解決鋼片加工難題，提升汽車電子部件制造精度。 針對(duì)汽車電子鋼片加工需求，吉田半導(dǎo)體研發(fā)的 JT-1200 水性感光膠實(shí)現(xiàn)水油兼容性達(dá) 100%，加工精度 ±5μm。其高粘接強(qiáng)度與耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿特性，確保復(fù)雜結(jié)構(gòu)的長(zhǎng)期可靠性。其涂布性能優(yōu)良，易做精細(xì)網(wǎng)點(diǎn)，適用于安全氣囊傳感器、車載攝像頭模組等精密部件。產(chǎn)品通過(guò) IATF 16949 汽車行業(yè)認(rèn)證，生產(chǎn)過(guò)程嚴(yán)格控制金屬離子含量，確保電子產(chǎn)品可靠性。 吉田質(zhì)量管控與認(rèn)證壁壘。廈門阻焊光刻膠工廠 客戶需求導(dǎo)向 支持特殊工藝需求定制，...

LCD 正性光刻膠（YK-200）應(yīng)用場(chǎng)景：LCD 面板的電極圖案化（如 TFT-LCD 的柵極、源漏極）、彩色濾光片制造。特點(diǎn)：高感光度與均勻涂布性，確保顯示面板的高對(duì)比度和色彩還原度。 厚膜光刻膠（JT-3001）應(yīng)用場(chǎng)景：Mini LED/Micro LED 顯示基板的巨量轉(zhuǎn)移技術(shù)，以及 OLED 面板的封裝工藝。特點(diǎn)：膜厚可控（可達(dá)數(shù)十微米），滿足高密度像素陣列的精細(xì)加工需求。 PCB 光刻膠（如 SU-3 負(fù)性光刻膠）應(yīng)用場(chǎng)景：高多層 PCB、HDI（高密度互連）板的線路成像，以及 IC 載板的精細(xì)線路制作。特點(diǎn)：抗電鍍性能優(yōu)異，支持細(xì)至 50μm 以下的線寬 / 線距，適應(yīng) 5...

LCD顯示 ? 彩色濾光片（CF）： ? 黑色矩陣（BM）光刻膠：隔離像素，線寬精度±2μm，透光率<0.1%。 ? RGB色阻光刻膠：形成紅/綠/藍(lán)像素，需高色純度（NTSC≥95%）和耐光性。 ? 陣列基板（Array）： ? 柵極絕緣層光刻膠：用于TFT-LCD的柵極圖案化，分辨率≤3μm。 OLED顯示（柔性/剛性） ? 像素定義層（PDL）光刻膠：在基板上形成有機(jī)發(fā)光材料的 confinement 結(jié)構(gòu)，線寬精度±1μm，需耐溶劑侵蝕（適應(yīng)蒸鍍工藝）。 ...

研發(fā)投入 ? 擁有自己實(shí)驗(yàn)室和研發(fā)團(tuán)隊(duì)，研發(fā)費(fèi)用占比超15%，聚焦EUV光刻膠前驅(qū)體、低缺陷納米壓印膠等前沿領(lǐng)域，與中山大學(xué)、華南理工大學(xué)建立產(chǎn)學(xué)研合作。 ? 專項(xiàng)布局：累計(jì)申請(qǐng)光刻膠相關(guān)的項(xiàng)目30余項(xiàng)，涵蓋樹(shù)脂合成、配方優(yōu)化、涂布工藝等細(xì)致環(huán)節(jié)。 生產(chǎn)體系 ? 全自動(dòng)化產(chǎn)線：采用德國(guó)曼茨（Manz）涂布設(shè)備、日本島津（Shimadzu）檢測(cè)儀器，年產(chǎn)能超500噸（光刻膠），支持小批量定制（小訂單100g）和大規(guī)模量產(chǎn)。 ? 潔凈環(huán)境：生產(chǎn)車間達(dá)萬(wàn)級(jí)潔凈標(biāo)準(zhǔn)（ISO 8級(jí)），避免顆粒污染，...

作為東莞松山湖的企業(yè)，吉田半導(dǎo)體深耕光刻膠領(lǐng)域 23 年，成功研發(fā)出 YK-300 半導(dǎo)體正性光刻膠與 JT-2000 納米壓印光刻膠。YK-300 適用于 45nm 及以上制程，線寬粗糙度（LWR）≤3nm，良率達(dá) 98% 以上，已通過(guò)中芯國(guó)際等晶圓廠驗(yàn)證；JT-2000 突破耐高溫極限，在 250℃復(fù)雜環(huán)境下仍保持圖形穩(wěn)定性，適用于 EUV 光刻前道工藝。依托進(jìn)口原材料與全自動(dòng)化生產(chǎn)工藝，產(chǎn)品通過(guò) ISO9001 認(rèn)證及歐盟 RoHS 標(biāo)準(zhǔn)，遠(yuǎn)銷全球并與跨國(guó)企業(yè)建立長(zhǎng)期合作，加速國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)程。光刻膠：半導(dǎo)體之路上的挑戰(zhàn)與突破。安徽油性光刻膠生產(chǎn)廠家 廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司以光刻...

吉田半導(dǎo)體突破光刻膠共性難題，提升行業(yè)生產(chǎn)效率，通過(guò)優(yōu)化材料配方與工藝，吉田半導(dǎo)體解決光刻膠留膜率低、蝕刻損傷等共性問(wèn)題，助力客戶降本增效。 針對(duì)傳統(tǒng)光刻膠留膜率低、蝕刻損傷嚴(yán)重等問(wèn)題，吉田半導(dǎo)體研發(fā)的 T150A KrF 光刻膠留膜率較同類產(chǎn)品高 8%，密集圖形側(cè)壁垂直度達(dá)標(biāo)率提升 15%。其納米壓印光刻膠采用特殊交聯(lián)技術(shù)，在顯影過(guò)程中減少有機(jī)溶劑對(duì)有機(jī)半導(dǎo)體的損傷，使芯片良率提升至 99.8%。這些技術(shù)突破有效降低客戶生產(chǎn)成本，推動(dòng)行業(yè)生產(chǎn)效率提升。吉田公司以無(wú)鹵無(wú)鉛配方與低 VOC 工藝打造光刻膠。沈陽(yáng)LED光刻膠感光膠制版光刻膠應(yīng)用場(chǎng)景：印刷電路板（FPC）、觸摸屏（TP）的掩膜版制作...

主要原材料“卡脖子”：從樹(shù)脂到光酸的依賴 樹(shù)脂與光酸的技術(shù)斷層 光刻膠成本中50%-60%來(lái)自樹(shù)脂，而國(guó)內(nèi)KrF/ArF光刻膠樹(shù)脂的單體國(guó)產(chǎn)化率不足10%。例如，日本信越化學(xué)的KrF樹(shù)脂純度達(dá)99.999%，金屬雜質(zhì)含量低于1ppb，而國(guó)內(nèi)企業(yè)的同類產(chǎn)品仍存在批次穩(wěn)定性問(wèn)題。光酸作為光刻膠的“心臟”，其合成需要超純?cè)噭┖蛷?fù)雜純化工藝，國(guó)內(nèi)企業(yè)在純度控制（如金屬離子含量）上與日本關(guān)東化學(xué)等國(guó)際巨頭存在代差。 原材料供應(yīng)鏈的脆弱性 光刻膠所需的酚醛樹(shù)脂、環(huán)烯烴共聚物（COC）等關(guān)鍵原料幾乎全部依賴進(jìn)口。日本信越化學(xué)因地震導(dǎo)致KrF光刻...

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司憑借技術(shù)創(chuàng)新與質(zhì)量?jī)?yōu)勢(shì)，在半導(dǎo)體材料行業(yè)占據(jù)重要地位。公司聚焦光刻膠、電子膠、錫膏等產(chǎn)品，其中納米壓印光刻膠可耐受 250℃高溫及強(qiáng)酸強(qiáng)堿環(huán)境，適用于高精度納米結(jié)構(gòu)制造；LCD 光刻膠以高穩(wěn)定性和精細(xì)度成為顯示面板行業(yè)的推薦材料。此外，公司還提供焊片、靶材等配套材料，滿足客戶多元化需求。 在技術(shù)層面，吉田半導(dǎo)體通過(guò)自主研發(fā)與國(guó)際合作結(jié)合，持續(xù)優(yōu)化生產(chǎn)工藝，實(shí)現(xiàn)全流程自動(dòng)化控制。其生產(chǎn)基地配備先進(jìn)設(shè)備，并嚴(yán)格執(zhí)行國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)，確保產(chǎn)品性能達(dá)到國(guó)際水平。同時(shí)，公司注重人才培養(yǎng)與引進(jìn)，匯聚化工、材料學(xué)等領(lǐng)域的專業(yè)團(tuán)隊(duì)，為技術(shù)創(chuàng)新提供堅(jiān)實(shí)支撐。未來(lái)，吉田半導(dǎo)體將繼續(xù)以...

感光機(jī)制 ? 重氮型（雙液型）：需混合光敏劑（如二疊氮二苯乙烯二磺酸鈉），曝光后通過(guò)交聯(lián)反應(yīng)固化，適用于精細(xì)圖案（如PCB電路線寬≤0.15mm）。 ? SBQ型（單液型）：預(yù)混光敏劑，無(wú)需調(diào)配，感光度高（曝光時(shí)間縮短30%），適合快速制版（如服裝印花）。 ? 環(huán)保型：采用無(wú)鉻配方（如CN10243143A），通過(guò)多元固化體系（熱固化+光固化）實(shí)現(xiàn)12-15mJ/cm2快速曝光，分辨率達(dá)2μm，符合歐盟REACH標(biāo)準(zhǔn)。 功能細(xì)分 ? 耐溶劑型：如日本村上AD20，耐酒精、甲苯等溶劑，適用...

? 正性光刻膠 ? YK-300：適用于半導(dǎo)體制造，具備高分辨率（線寬≤10μm）、耐高溫（250℃）、耐酸堿腐蝕特性，主要用于28nm及以上制程的晶圓制造，適配UV光源（365nm/405nm）。 ? 技術(shù)優(yōu)勢(shì)：采用進(jìn)口樹(shù)脂及光引發(fā)劑，絕緣阻抗高（>10^14Ω），滿足半導(dǎo)體器件對(duì)絕緣性的嚴(yán)苛要求。 ? 負(fù)性光刻膠 ? JT-1000：負(fù)性膠，主打優(yōu)異抗深蝕刻性能，分辨率達(dá)3μm，適用于功率半導(dǎo)體、MEMS器件制造，可承受氫氟酸（HF）、磷酸（H3PO4）等強(qiáng)腐蝕液處理。 ? SU-3：經(jīng)濟(jì)...

納米電子器件制造 ? 半導(dǎo)體芯片：在22nm以下制程中，EUV光刻膠（分辨率≤10nm）用于制備晶體管柵極、納米導(dǎo)線等關(guān)鍵結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)芯片集成度提升（如3nm制程的FinFET/GAA晶體管）。 ? 二維材料器件：在石墨烯、二硫化鉬等二維材料表面，通過(guò)電子束光刻膠定義納米電極陣列，構(gòu)建單原子層晶體管或傳感器。 納米光子學(xué)與超材料 ? 光子晶體與波導(dǎo)：利用光刻膠制備亞波長(zhǎng)周期結(jié)構(gòu)（如光子晶體光纖、納米級(jí)波導(dǎo)彎頭），調(diào)控光的傳播路徑，用于集成光路或量子光學(xué)器件。 ? 超材料設(shè)計(jì)：在金屬/介質(zhì)基底上刻蝕納米級(jí)“魚(yú)網(wǎng)狀...

正性光刻膠（如 YK-300） 應(yīng)用場(chǎng)景：用于芯片的精細(xì)圖案化，如集成電路（IC）、分立器件（二極管、三極管）的制造。 特點(diǎn)：高分辨率（可達(dá)亞微米級(jí)），適用于多層光刻工藝，確保芯片電路的高精度與可靠性。 負(fù)性光刻膠（如 JT-1000） 應(yīng)用場(chǎng)景：用于功率半導(dǎo)體（如 MOSFET、IGBT）的制造，以及傳感器（如 MEMS）的微結(jié)構(gòu)成型。 特點(diǎn)：抗蝕刻能力強(qiáng)，適合復(fù)雜圖形的轉(zhuǎn)移，尤其在深寬比要求較高的工藝中表現(xiàn)優(yōu)異。 納米壓印光刻膠（JT-2000） 應(yīng)用場(chǎng)景：第三代半導(dǎo)體（GaN、SiC）芯片、量子點(diǎn)器件及微流控芯片的制造...

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，主要涵蓋厚板、負(fù)性、正性、納米壓印及光刻膠等類別，以滿足不同領(lǐng)域的需求。 厚板光刻膠：JT-3001 型號(hào)，具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好，符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn)，保質(zhì)期 1 年。適用于對(duì)精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝，如特定電路板制造。 負(fù)性光刻膠 SU-3 負(fù)性光刻膠：分辨率優(yōu)異，對(duì)比度良好，曝光靈敏度高，光源適應(yīng)，重量 100g。常用于對(duì)曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域。 正性光刻膠 松山湖企業(yè)深耕光刻膠領(lǐng)域二十載，提供全系列半導(dǎo)體材料解決方案。...

LCD顯示 ? 彩色濾光片（CF）： ? 黑色矩陣（BM）光刻膠：隔離像素，線寬精度±2μm，透光率<0.1%。 ? RGB色阻光刻膠：形成紅/綠/藍(lán)像素，需高色純度（NTSC≥95%）和耐光性。 ? 陣列基板（Array）： ? 柵極絕緣層光刻膠：用于TFT-LCD的柵極圖案化，分辨率≤3μm。 OLED顯示（柔性/剛性） ? 像素定義層（PDL）光刻膠：在基板上形成有機(jī)發(fā)光材料的 confinement 結(jié)構(gòu)，線寬精度±1μm，需耐溶劑侵蝕（適應(yīng)蒸鍍工藝）。 ...

技術(shù)挑戰(zhàn) 光刻膠作為半導(dǎo)體、顯示面板等高級(jí)制造的材料，其技術(shù)挑戰(zhàn)主要集中在材料性能優(yōu)化、制程精度匹配、復(fù)雜環(huán)境適應(yīng)性以及產(chǎn)業(yè)自主化突破等方面 LCD 光刻膠供應(yīng)商哪家好?吉田半導(dǎo)體高分辨率 +低 VOC 配方!合肥阻焊油墨光刻膠廠家 ? 高分辨率：隨著半導(dǎo)體制程向3nm、2nm推進(jìn)，需開(kāi)發(fā)更高精度的EUV光刻膠，解決光斑擴(kuò)散、線寬控制等問(wèn)題。 ? 靈敏度與穩(wěn)定性：平衡感光速度和圖案抗蝕能力，適應(yīng)極紫外光（13.5nm）的低能量曝光。 ? 國(guó)產(chǎn)化替代：目前光刻膠（如EUV、ArF浸沒(méi)式）長(zhǎng)期被日本、美國(guó)企業(yè)壟斷，國(guó)內(nèi)正加速研發(fā)...

技術(shù)挑戰(zhàn) 光刻膠作為半導(dǎo)體、顯示面板等高級(jí)制造的材料，其技術(shù)挑戰(zhàn)主要集中在材料性能優(yōu)化、制程精度匹配、復(fù)雜環(huán)境適應(yīng)性以及產(chǎn)業(yè)自主化突破等方面 技術(shù)突破加速國(guó)產(chǎn)替代，國(guó)產(chǎn)化布局贏得市場(chǎng)。深圳激光光刻膠工廠 ? 高分辨率：隨著半導(dǎo)體制程向3nm、2nm推進(jìn)，需開(kāi)發(fā)更高精度的EUV光刻膠，解決光斑擴(kuò)散、線寬控制等問(wèn)題。 ? 靈敏度與穩(wěn)定性：平衡感光速度和圖案抗蝕能力，適應(yīng)極紫外光（13.5nm）的低能量曝光。 ? 國(guó)產(chǎn)化替代：目前光刻膠（如EUV、ArF浸沒(méi)式）長(zhǎng)期被日本、美國(guó)企業(yè)壟斷，國(guó)內(nèi)正加速研發(fā)突破。 光...

國(guó)家戰(zhàn)略支持 《國(guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金三期規(guī)劃》將光刻膠列為重點(diǎn)投資領(lǐng)域，計(jì)劃投入超500億元支持研發(fā)。工信部對(duì)通過(guò)驗(yàn)證的企業(yè)給予稅收減免和設(shè)備采購(gòu)補(bǔ)貼，單家企業(yè)比較高補(bǔ)貼可達(dá)研發(fā)投入的30%。 地方產(chǎn)業(yè)協(xié)同 濟(jì)南設(shè)立寬禁帶半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)專項(xiàng)基金，深圳國(guó)際半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)業(yè)展覽會(huì)（2025年4月）吸引全球300余家企業(yè)參展，推動(dòng)技術(shù)交流。 資本助力產(chǎn)能擴(kuò)張 恒坤新材通過(guò)科創(chuàng)板IPO募資15億元，擴(kuò)大KrF光刻膠產(chǎn)能并布局集成電路前驅(qū)體項(xiàng)目。彤程新材半導(dǎo)體光刻膠業(yè)務(wù)2024年上半年?duì)I收增長(zhǎng)54.43%，ArF光刻膠開(kāi)始形成銷售。...

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司成立于 2023 年，總部位于東莞松山湖經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)，注冊(cè)資本 2000 萬(wàn)元。作為高新企業(yè)和廣東省專精特新企業(yè)，公司專注于半導(dǎo)體材料的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售，產(chǎn)品線覆蓋芯片光刻膠、LCD 光刻膠、納米壓印光刻膠、半導(dǎo)體錫膏、焊片及靶材等領(lǐng)域。其光刻膠產(chǎn)品以高分辨率、耐蝕刻性和環(huán)保特性著稱，廣泛應(yīng)用于芯片制造、顯示面板及精密電子元件生產(chǎn)。 公司依托 23 年行業(yè)經(jīng)驗(yàn)積累，構(gòu)建了完整的技術(shù)研發(fā)體系，擁有全自動(dòng)化生產(chǎn)設(shè)備及多項(xiàng)技術(shù)。原材料均選用美國(guó)、德國(guó)、日本進(jìn)口的材料，并通過(guò) ISO9001:2008 質(zhì)量管理體系認(rèn)證，生產(chǎn)流程嚴(yán)格執(zhí)行 8S 現(xiàn)場(chǎng)管理標(biāo)準(zhǔn)，確保...

在半導(dǎo)體材料領(lǐng)域，廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司憑借 23 年技術(shù)沉淀，已成為國(guó)內(nèi)光刻膠行業(yè)的企業(yè)。公司產(chǎn)品線覆蓋正性、負(fù)性、厚膜、納米壓印等多類型光刻膠，廣泛應(yīng)用于芯片制造、LCD 顯示、PCB 電路板等領(lǐng)域。 技術(shù)：自主研發(fā)的光刻膠產(chǎn)品具備高分辨率（如 JT-3001 厚板光刻膠）、高感光度（如 JT-1000 負(fù)性光刻膠）及抗深蝕刻性能，部分指標(biāo)達(dá)到水平。 嚴(yán)苛品控：生產(chǎn)過(guò)程嚴(yán)格遵循 ISO9001 體系，材料進(jìn)口率 100%，并通過(guò) 8S 現(xiàn)場(chǎng)管理確保制程穩(wěn)定性。 定制化服務(wù)：支持客戶需求定制，例如為特殊工藝開(kāi)發(fā)光刻膠，滿足多樣化場(chǎng)景需求。 ...

晶圓制造（前道工藝） ? 功能：在硅片表面形成高精度電路圖形，是光刻工藝的主要材料。 ? 細(xì)分場(chǎng)景： ? 邏輯/存儲(chǔ)芯片：用于28nm及以上成熟制程的KrF光刻膠（分辨率0.25-1μm）、14nm以下先進(jìn)制程的ArF浸沒(méi)式光刻膠（分辨率≤45nm），以及極紫外（EUV）光刻膠（目標(biāo)7nm以下，研發(fā)中）。 ? 功率半導(dǎo)體（如IGBT）：使用厚膜光刻膠（膜厚5-50μm），滿足深溝槽刻蝕需求。 ? MEMS傳感器：通過(guò)高深寬比光刻膠（如SU-8）實(shí)現(xiàn)微米級(jí)結(jié)構(gòu)（如加速度計(jì)、陀螺儀的懸臂梁）。 ...