研磨液中的化學(xué)成分與硅片表面材料產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，將不溶的物質(zhì)轉(zhuǎn)化為易溶物質(zhì)，或者將硬度高的物質(zhì)進(jìn)行軟化，然后通過(guò)磨粒的微機(jī)械摩擦作用將這些化學(xué)反應(yīng)物從硅片表面去除，溶入流動(dòng)的液體中帶走，即在化學(xué)去膜和機(jī)械去膜的交替過(guò)程中實(shí)現(xiàn)平坦化的目的。其反應(yīng)分為兩個(gè)過(guò)程：化學(xué)...

應(yīng)用實(shí)例：測(cè)量高純氧化鋁粉。一般來(lái)說(shuō)，含量大于99%的氧化鋁稱為高純氧化鋁，其特性有耐化學(xué)腐蝕、耐高溫(正常使用在1600℃，短期1800℃)、耐驟冷驟熱、密度高等。99.995%高純氧化鋁粉主要用于LED人造藍(lán)寶石晶體、高級(jí)陶瓷、PDP熒光粉及其他高性能材料...

儀器的主要參數(shù)為：測(cè)量范圍：0.005-75μm，光源：405nmLED，旋轉(zhuǎn)速度可選：12.000RPM、18.000RPM、24.000RPM，標(biāo)準(zhǔn)分析圓盤(pán)：CR-39聚合物（耐有機(jī)溶劑和水溶液），可選配：低密度樣品分析擴(kuò)展、變速圓盤(pán)；自動(dòng)密度梯度液生成器...

高靈敏度：即使只有1微克樣品，CPS也能得到一個(gè)準(zhǔn)確的粒度分布結(jié)果。快速、高精度數(shù)模(A/D)轉(zhuǎn)換：可用信號(hào)分辨率(即軟件操作的數(shù)據(jù)對(duì)象)決定于數(shù)模轉(zhuǎn)換(A/D)過(guò)程。CPS系統(tǒng)使用的數(shù)模轉(zhuǎn)換可以實(shí)現(xiàn)在每秒31次取樣時(shí)保持20位以上的精度，即百萬(wàn)分之一的誤差。...

氧化鋅可以應(yīng)用于病毒載體制劑，并且病毒顆粒大小和病毒聚集對(duì)基于病毒的生物制品的下游加工、配方和混合有著巨大的影響此款設(shè)備在有關(guān)工藝優(yōu)化和產(chǎn)品質(zhì)量等重要問(wèn)題上有重要的參考價(jià)值。CPS納米粒度分析儀可以直觀準(zhǔn)確的表征病毒顆粒的團(tuán)聚情況。CPS納米粒度分析儀測(cè)定不同...

CMP漿料粒度分析的難點(diǎn)在于必須在拋光過(guò)程中全濃度條件下快速測(cè)定平均顆粒直徑和粒度分布，因?yàn)橄♂尶赡軐?dǎo)致漿料穩(wěn)定性和粒度的變化(比如進(jìn)一步的團(tuán)聚或解聚)，另外在稀釋后的漿料中很難檢測(cè)本來(lái)就較少量的團(tuán)聚體。CPS-24000型納米粒度分析儀是較新型的納米粒度分析...

EyeTec濃度測(cè)量：除了顆粒大小，激光和顆粒交互產(chǎn)生的信號(hào)可以提供非常有用的顆粒濃度信息。EyeTech記錄全部的交互信號(hào)。因?yàn)樾D(zhuǎn)的激光的檢測(cè)范圍是一定的，所以顆粒濃度可以計(jì)算出來(lái)。了解顆粒數(shù)據(jù)庫(kù)系統(tǒng)：可通過(guò)鼠標(biāo)點(diǎn)擊調(diào)出每個(gè)已檢測(cè)顆粒的詳細(xì)數(shù)據(jù)信息，包括圖...

而化學(xué)機(jī)械拋光（Chemical mechanical polishing，CMP）是集成電路芯片的一個(gè)關(guān)鍵制程，國(guó)內(nèi)拋光所用關(guān)鍵材料CMP拋光墊，幾乎全部依賴進(jìn)口。CMP典型的拋光漿料都是納米級(jí)發(fā)煙硅石(5Vol%，170-230nm)、高純硅膠(9Vol%...

而CMP工藝離不開(kāi)研磨料的發(fā)展，那么對(duì)于磨料的顆粒粒度表征就顯得尤為重要了。CMP就是用化學(xué)腐蝕和機(jī)械力對(duì)加工過(guò)程中的硅晶圓或其它襯底材料進(jìn)行平滑處理。將硅片固定在拋光頭的較下面，將拋光墊放置在研磨盤(pán)上，拋光時(shí)，旋轉(zhuǎn)的拋光頭以一定的壓力壓在旋轉(zhuǎn)的拋光墊上，由亞...

PEDOT是EDOT(3,4-乙撐二氧噻吩單體)的聚合物，PEDOT具有高電導(dǎo)率、高度的環(huán)境穩(wěn)定性、對(duì)可見(jiàn)光具有高透過(guò)率等特點(diǎn)，大量用于光伏、電容器、電致變色、觸摸屏等行業(yè)，用來(lái)制作抗靜電涂層、OLED(有機(jī)電激發(fā)光二極管)、有機(jī)薄膜太陽(yáng)能電池材料、電極材料、...

為了實(shí)現(xiàn)較佳過(guò)程控制，樣品測(cè)量時(shí)間為5分鐘左右。催化劑濃度通常在40至1000ppm范圍內(nèi)。C-Quand在線XRF分析儀是一款真正的過(guò)程分析儀，專為化工廠的惡劣環(huán)境而設(shè)計(jì)。分析儀配置和操作簡(jiǎn)單。它配有模擬和串行數(shù)據(jù)傳輸協(xié)議。C-Quand在線 XRF分析儀可...

C-Quand在線EDXRF分析儀在PTA工藝中的應(yīng)用，產(chǎn)品綜述：精對(duì)苯二甲酸，英文名簡(jiǎn)稱為PTA，它是聚酯生產(chǎn)鏈的重要組成部分，是中國(guó)重要的化工原料。PTA可用于生產(chǎn)聚酯，合成纖維和增塑劑等，它們大量用于工業(yè)塑料，薄膜，涂料和其他領(lǐng)域。作為紡織化纖和石油化工...

能夠允許用戶為不同樣品設(shè)置標(biāo)準(zhǔn)測(cè)量方法SOP，并且可以對(duì)SOP進(jìn)行編輯和保存。EyeTech 是一個(gè)模塊化的系統(tǒng)，可以選配10種不同的測(cè)量池。更換測(cè)量池簡(jiǎn)便快速，儀器便于分析各種顆粒，如液相、乳化液、干粉、纖維、磁粉、加熱的液體和氣溶膠等。這些測(cè)量池模塊都是配...

CPS納米粒度分析儀測(cè)量金剛石微粉的粒徑，可提供更精確更穩(wěn)定的測(cè)量結(jié)果，有效控制產(chǎn)品的質(zhì)量。應(yīng)用實(shí)例：光催化活性高，高度耐酸堿耐腐蝕。二氧化鈦粒度分布分析，穩(wěn)定性二氧化鈦，二氧化鈦常被用作顏料、防曬霜和增稠劑。因此它有著大量的應(yīng)用，從油漆到食用色素到化妝品和護(hù)...

氧化鋅的能帶隙和激子束縛能較大，透明度高，有優(yōu)良的常溫發(fā)光性能，在半導(dǎo)體領(lǐng)域的液晶顯示器、薄膜晶體管、發(fā)光二極管等產(chǎn)品中均有應(yīng)用。氧化鋅粉末還用于制作口腔用品，如牙膏、牙凝膠、牙粉等。粒度仍然是評(píng)價(jià)氧化鋅粉末的重要指標(biāo)！CPS納米粒度分析儀是您的較佳選擇！CP...

儀器的主要參數(shù)為：測(cè)量范圍：0.005-75μm，光源：405nmLED，旋轉(zhuǎn)速度可選：12.000RPM、18.000RPM、24.000RPM，標(biāo)準(zhǔn)分析圓盤(pán)：CR-39聚合物（耐有機(jī)溶劑和水溶液），可選配：低密度樣品分析擴(kuò)展、變速圓盤(pán)；自動(dòng)密度梯度液生成器...

高靈敏度：即使只有1微克樣品，CPS也能得到一個(gè)準(zhǔn)確的粒度分布結(jié)果?？焖?、高精度數(shù)模(A/D)轉(zhuǎn)換：可用信號(hào)分辨率(即軟件操作的數(shù)據(jù)對(duì)象)決定于數(shù)模轉(zhuǎn)換(A/D)過(guò)程。CPS系統(tǒng)使用的數(shù)模轉(zhuǎn)換可以實(shí)現(xiàn)在每秒31次取樣時(shí)保持20位以上的精度，即百萬(wàn)分之一的誤差。...

而CMP工藝離不開(kāi)研磨料的發(fā)展，那么對(duì)于磨料的顆粒粒度表征就顯得尤為重要了。CMP就是用化學(xué)腐蝕和機(jī)械力對(duì)加工過(guò)程中的硅晶圓或其它襯底材料進(jìn)行平滑處理。將硅片固定在拋光頭的較下面，將拋光墊放置在研磨盤(pán)上，拋光時(shí)，旋轉(zhuǎn)的拋光頭以一定的壓力壓在旋轉(zhuǎn)的拋光墊上，由亞...

PEDOT是EDOT(3,4-乙撐二氧噻吩單體)的聚合物，PEDOT具有高電導(dǎo)率、高度的環(huán)境穩(wěn)定性、對(duì)可見(jiàn)光具有高透過(guò)率等特點(diǎn)，大量用于光伏、電容器、電致變色、觸摸屏等行業(yè)，用來(lái)制作抗靜電涂層、OLED(有機(jī)電激發(fā)光二極管)、有機(jī)薄膜太陽(yáng)能電池材料、電極材料、...

高靈敏度：即使只有1微克樣品，CPS也能得到一個(gè)準(zhǔn)確的粒度分布結(jié)果?？焖佟⒏呔葦?shù)模(A/D)轉(zhuǎn)換：可用信號(hào)分辨率(即軟件操作的數(shù)據(jù)對(duì)象)決定于數(shù)模轉(zhuǎn)換(A/D)過(guò)程。CPS系統(tǒng)使用的數(shù)模轉(zhuǎn)換可以實(shí)現(xiàn)在每秒31次取樣時(shí)保持20位以上的精度，即百萬(wàn)分之一的誤差。...

能夠允許用戶為不同樣品設(shè)置標(biāo)準(zhǔn)測(cè)量方法SOP，并且可以對(duì)SOP進(jìn)行編輯和保存。EyeTech 是一個(gè)模塊化的系統(tǒng)，可以選配10種不同的測(cè)量池。更換測(cè)量池簡(jiǎn)便快速，儀器便于分析各種顆粒，如液相、乳化液、干粉、纖維、磁粉、加熱的液體和氣溶膠等。這些測(cè)量池模塊都是配...

如果能夠?qū)Υ呋瘎┰睾浚ㄢ?、錳和溴Br）進(jìn)行連續(xù)在線分析，可以更好地控制工藝，提高產(chǎn)品質(zhì)量和增加產(chǎn)量。C-Quand在線EDXRF分析儀：利用 C-Quand在線EDXRF分析儀對(duì)鈷、錳、溴三種催化劑進(jìn)行了同時(shí)和連續(xù)的分析。所使用的技術(shù)是由X射線管激發(fā)的能量...

CMP漿料粒度分析的難點(diǎn)在于必須在拋光過(guò)程中全濃度條件下快速測(cè)定平均顆粒直徑和粒度分布，因?yàn)橄♂尶赡軐?dǎo)致漿料穩(wěn)定性和粒度的變化(比如進(jìn)一步的團(tuán)聚或解聚)，另外在稀釋后的漿料中很難檢測(cè)本來(lái)就較少量的團(tuán)聚體。CPS-24000型納米粒度分析儀是較新型的納米粒度分析...

CPS利用差速離心沉降法的原理表征不同處理方式下病毒顆粒的沉降時(shí)間，以及病毒顆粒的團(tuán)聚情況，峰值清晰可見(jiàn)，為疫苗的研發(fā)生產(chǎn)提供全新的解決方案。應(yīng)用范圍：CPS納米粒度分析儀可測(cè)量粒度分布在5nm-75微米之間的超細(xì)粉，大量應(yīng)用于以下領(lǐng)域?；ぃ壕酆衔锶槟z和乳液...

提供數(shù)量、面積和體積等指標(biāo)的平率分布圖和表、累計(jì)分布圖和表格粒度和粒型參數(shù)分布的結(jié)果；能夠自動(dòng)產(chǎn)生實(shí)驗(yàn)結(jié)果world報(bào)告。激光和視頻分析產(chǎn)生的信息，很容易通過(guò)直觀的數(shù)據(jù)報(bào)表軟件得到。測(cè)量結(jié)果可以各種表格和圖顯示出來(lái)，這些表格和圖可以由用戶選擇，以便正確顯示需要...

各種金屬粉體：如鋁粉、鋅粉、鉬粉、鎢粉、鎂粉、銅粉以及稀土金屬粉、合金粉等。其它粉體：如催化劑、水泥、磨料、醫(yī)藥、農(nóng)藥、食品、涂料、染料、熒光粉、河流泥沙、陶瓷原料、各種乳濁液等。在現(xiàn)代裝備制造業(yè)中的各種潤(rùn)滑油、液壓油、燃料油、超導(dǎo)體、絕緣材料、無(wú)線電技術(shù)等行...

顆粒的大小稱作粒度，顆粒的直徑稱做粒徑。通常用粒徑來(lái)表示粒度，粒度測(cè)量?jī)x可以利用顆粒對(duì)激光的散射特性作等效對(duì)比，可快速有效測(cè)量粒徑，采用會(huì)聚光傅立葉變換測(cè)試技術(shù)保證在短焦距獲得大量程，有效提高儀器的分辨能力對(duì)小顆粒有的測(cè)試能力，是工廠、研究所、高等院校等機(jī)構(gòu)進(jìn)...

EyeTec濃度測(cè)量：除了顆粒大小，激光和顆粒交互產(chǎn)生的信號(hào)可以提供非常有用的顆粒濃度信息。EyeTech記錄全部的交互信號(hào)。因?yàn)樾D(zhuǎn)的激光的檢測(cè)范圍是一定的，所以顆粒濃度可以計(jì)算出來(lái)。了解顆粒數(shù)據(jù)庫(kù)系統(tǒng)：可通過(guò)鼠標(biāo)點(diǎn)擊調(diào)出每個(gè)已檢測(cè)顆粒的詳細(xì)數(shù)據(jù)信息，包括圖...

據(jù)統(tǒng)計(jì)，2021年我國(guó)PTA將迎來(lái)投產(chǎn)前端期，基本都是行業(yè)前端企業(yè)配套上下游的規(guī)劃項(xiàng)目，其中恒力石化2021年在廣東惠州設(shè)計(jì)產(chǎn)能達(dá)到500萬(wàn)噸，預(yù)計(jì)2021年我國(guó)PTA計(jì)劃投產(chǎn)PTA產(chǎn)能1650萬(wàn)噸（保底1160萬(wàn)噸），預(yù)計(jì)2022年我國(guó)PTA計(jì)劃投產(chǎn)PTA產(chǎn)...

顆粒的大小稱作粒度，顆粒的直徑稱做粒徑。通常用粒徑來(lái)表示粒度，粒度測(cè)量?jī)x可以利用顆粒對(duì)激光的散射特性作等效對(duì)比，可快速有效測(cè)量粒徑，采用會(huì)聚光傅立葉變換測(cè)試技術(shù)保證在短焦距獲得大量程，有效提高儀器的分辨能力對(duì)小顆粒有的測(cè)試能力，是工廠、研究所、高等院校等機(jī)構(gòu)進(jìn)...