廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司,坐落于松山湖經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū),是半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的一顆璀璨明珠。公司注冊資本 2000 萬元,專注于半導(dǎo)體材料的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售,是國家高新技術(shù)企業(yè)、廣東省專精特新企業(yè)以及廣東省創(chuàng)新型中小企業(yè)。
強大的產(chǎn)品陣容:吉田半導(dǎo)體產(chǎn)品豐富且實力強勁。芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD 光刻膠精細(xì)滿足芯片制造、微納加工等關(guān)鍵環(huán)節(jié)需求;半導(dǎo)體錫膏、焊片在電子焊接領(lǐng)域性能;靶材更是在材料濺射沉積工藝中發(fā)揮關(guān)鍵作用。這些產(chǎn)品遠(yuǎn)銷全球,與眾多世界 500 強企業(yè)及電子加工企業(yè)建立了長期穩(wěn)固的合作關(guān)系。
雄厚的研發(fā)生產(chǎn)實力:作為一家擁有 23 年研發(fā)與生產(chǎn)經(jīng)驗的綜合性企業(yè),吉田半導(dǎo)體具備行業(yè)前列規(guī)模與先進(jìn)的全自動化生產(chǎn)設(shè)備。23 年的深耕細(xì)作,使其在技術(shù)研發(fā)、工藝優(yōu)化等方面積累了深厚底蘊,能夠快速響應(yīng)市場需求,不斷推出創(chuàng)新性產(chǎn)品。
嚴(yán)格的質(zhì)量管控:公司始終將品質(zhì)視為生命線,嚴(yán)格按照 ISO9001:2008 質(zhì)量體系標(biāo)準(zhǔn)監(jiān)控生產(chǎn)制程。生產(chǎn)環(huán)境執(zhí)行 8S 現(xiàn)場管理,從源頭抓起,所有生產(chǎn)材料均選用美國、德國、日本等國家進(jìn)口的高質(zhì)量原料,確??蛻羰褂玫匠哔|(zhì)量且穩(wěn)定的產(chǎn)品。
吉田半導(dǎo)體助力區(qū)域經(jīng)濟(jì)發(fā)展,推動產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同創(chuàng)新。煙臺阻焊光刻膠生產(chǎn)廠家
國家戰(zhàn)略支持
《國家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金三期規(guī)劃》將光刻膠列為重點投資領(lǐng)域,計劃投入超500億元支持研發(fā)。工信部對通過驗證的企業(yè)給予稅收減免和設(shè)備采購補貼,單家企業(yè)比較高補貼可達(dá)研發(fā)投入的30%。
地方產(chǎn)業(yè)協(xié)同
濟(jì)南設(shè)立寬禁帶半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)專項基金,深圳國際半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)業(yè)展覽會(2025年4月)吸引全球300余家企業(yè)參展,推動技術(shù)交流。
資本助力產(chǎn)能擴(kuò)張
恒坤新材通過科創(chuàng)板IPO募資15億元,擴(kuò)大KrF光刻膠產(chǎn)能并布局集成電路前驅(qū)體項目。彤程新材半導(dǎo)體光刻膠業(yè)務(wù)2024年上半年營收增長54.43%,ArF光刻膠開始形成銷售。
低溫光刻膠供應(yīng)商吉田技術(shù)自主化與技術(shù)領(lǐng)域突破!
吉田半導(dǎo)體納米壓印光刻膠 JT-2000:國產(chǎn)技術(shù)突破耐高溫極限
自主研發(fā) JT-2000 納米壓印光刻膠耐受 250℃高溫,為國產(chǎn)納米器件制造提供關(guān)鍵材料。吉田半導(dǎo)體 JT-2000 納米壓印光刻膠采用國產(chǎn)交聯(lián)樹脂,在 250℃高溫下仍保持圖形保真度 > 95%。產(chǎn)品采用國產(chǎn)原材料與全自動化工藝,其高粘接強度與耐強酸強堿特性,適用于光學(xué)元件、傳感器等精密器件。產(chǎn)品已通過國內(nèi)科研機(jī)構(gòu)驗證,應(yīng)用于國產(chǎn) EUV 光刻機(jī)前道工藝,幫助客戶實現(xiàn)納米結(jié)構(gòu)加工自主化。
吉田半導(dǎo)體的光刻膠產(chǎn)品覆蓋芯片制造、顯示面板、PCB 及微納加工等領(lǐng)域,通過差異化技術(shù)(如納米壓印、厚膜工藝)和環(huán)保特性(水性配方),滿足從傳統(tǒng)電子到新興領(lǐng)域(如第三代半導(dǎo)體、Mini LED)的多樣化需求。其產(chǎn)品不僅支持高精度、高可靠性的制造工藝,還通過材料創(chuàng)新推動行業(yè)向綠色化、低成本化方向發(fā)展。吉田半導(dǎo)體光刻膠的優(yōu)勢在于技術(shù)全面性、環(huán)保創(chuàng)新、質(zhì)量穩(wěn)定性及本土化服務(wù),尤其在納米壓印、厚膜工藝及水性膠領(lǐng)域形成差異化競爭力。
光刻膠廠家推薦吉田半導(dǎo)體,23 年研發(fā)經(jīng)驗,全自動化生產(chǎn)保障品質(zhì)!
上游原材料:
? 樹脂:彤程新材、鼎龍股份實現(xiàn)KrF/ArF光刻膠樹脂自主合成,金屬雜質(zhì)含量<5ppb(國際標(biāo)準(zhǔn)<10ppb)。
? 光引發(fā)劑:久日新材攻克EUV光刻膠原料光致產(chǎn)酸劑,累計形成噸級訂單;威邁芯材合肥基地建成100噸/年ArF/KrF光刻膠主材料產(chǎn)線。
? 溶劑:怡達(dá)股份電子級PM溶劑全球市占率超40%,與南大光電合作開發(fā)配套溶劑,技術(shù)指標(biāo)達(dá)SEMI G5標(biāo)準(zhǔn)。
設(shè)備與驗證:
? 上海新陽與上海微電子聯(lián)合開發(fā)光刻機(jī)適配參數(shù),驗證周期較國際廠商縮短6個月;徐州博康實現(xiàn)“單體-樹脂-成品膠”全鏈條國產(chǎn)化,適配ASML Twinscan NXT系列光刻機(jī)。
? 國內(nèi)企業(yè)通過18-24個月的晶圓廠驗證周期(如中芯國際、長江存儲),一旦導(dǎo)入不易被替代。
告別顯影殘留!化學(xué)增幅型光刻膠助力封裝。蘇州低溫光刻膠報價
半導(dǎo)體材料方案選吉田,歐盟 REACH 合規(guī),24 小時技術(shù)支持!煙臺阻焊光刻膠生產(chǎn)廠家
光刻膠(Photoresist)是一種對光敏感的高分子材料,主要用于光刻工藝中,通過光化學(xué)反應(yīng)實現(xiàn)圖案的轉(zhuǎn)移,是半導(dǎo)體、集成電路(IC)、印刷電路板(PCB)、液晶顯示(LCD)等制造領(lǐng)域的材料之一。
光刻膠特性與組成
? 光敏性:在特定波長(如紫外光、極紫外光EUV等)照射下,會發(fā)生化學(xué)結(jié)構(gòu)變化(如交聯(lián)或分解),從而改變在顯影液中的溶解性。
? 主要成分:
? 樹脂(成膜劑):形成基礎(chǔ)膜層,決定光刻膠的機(jī)械和化學(xué)性能。
? 光敏劑:吸收光能并引發(fā)化學(xué)反應(yīng)(如光分解、光交聯(lián))。
? 溶劑:調(diào)節(jié)粘度,便于涂覆成膜。
? 添加劑:改善性能(如感光度、分辨率、對比度等)。
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