水浸超聲掃描儀器如何進行對焦?
一、水浸超聲掃描對焦的原理
水浸超聲掃描的對焦本質,是通過調整探頭與工件之間的水層厚度(水距)及聲束聚焦參數,使超聲波能量集中于目標檢測區(qū)域,從而提升缺陷信號的信噪比。
關鍵參數包括:
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水距(Water Path):探頭表面到工件表面的垂直距離。
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焦點深度(Focal Depth):聲束能量 集中的位置。
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頻率與晶片尺寸:影響聲束擴散角與分辨率。
二、對焦操作三步法:從理論到實踐
1. 第一步:確定水距與焦點深度
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水距計算:
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根據探頭頻率、晶片尺寸及工件材質,通過公式或儀器預設參數計算初始水距。
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示例:使用5MHz聚焦探頭檢測20mm厚鋁合金工件,初始水距建議設置為15-20mm(具體需參考探頭說明書)。
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焦點深度匹配:
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確保焦點深度覆蓋工件缺陷可能存在的區(qū)域。
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可調聚焦探頭(如杭州芯紀源XJY-WS系列)支持焦點深度在5-100mm范圍內連續(xù)調節(jié),適配不同厚度工件。
2. 第二步:機械與軟件協(xié)同調焦
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機械調焦:
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通過精密升降臺或Z軸電機調整探頭高度,使水距達到計算值。
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亮點:杭州芯紀源設備配備激光定位系統(tǒng),實時顯示水距數值,誤差≤0.01mm。
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軟件調焦:
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在超聲檢測軟件中設置焦點深度、增益等參數,通過C掃描成像驗證焦點位置。
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技巧:使用“單點測試”功能,在工件表面移動探頭,觀察信號幅值變化,找到 幅值點即為 焦點。
3. 第三步:動態(tài)優(yōu)化與驗證
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聲束覆蓋驗證:
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對曲面或異形工件,需通過多角度掃描或三維成像驗證聲束是否完全覆蓋檢測區(qū)域。
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分辨率測試:
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使用標準試塊(如平底孔試塊)檢測 小可分辨缺陷尺寸,確保對焦精度滿足要求。
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杭州芯紀源方案:提供AI輔助對焦算法,自動優(yōu)化水距與焦點參數,分辨率提升30%。
三、對焦優(yōu)化策略:四大場景應對方案
1. 薄壁工件(<5mm)
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挑戰(zhàn):水距過小易導致近場干擾,過大則降低分辨率。
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方案:
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選擇高頻小晶片探頭(如10MHz,Φ6mm),減小近場區(qū)長度。
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水距設置為晶片直徑的1-2倍,配合點聚焦模式提升精度。
2. 厚壁工件(>50mm)
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挑戰(zhàn):聲束擴散導致能量衰減,焦點深度難以覆蓋全厚度。
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方案:
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使用線聚焦探頭,通過聲束匯聚延長有效檢測深度。
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分層掃描時,動態(tài)調整焦點深度,確保每層均處于 聚焦狀態(tài)。
3. 曲面工件(如管材、渦輪葉片)
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挑戰(zhàn):水距隨曲率變化,需實時補償。
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方案:
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配備水浸耦合補償系統(tǒng),自動調整探頭角度與水距。
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采用相控陣探頭,通過電子束偏轉實現曲面全覆蓋。
4. 微小缺陷檢測(<0.1mm)
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挑戰(zhàn):需極高分辨率與信噪比。
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方案:
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使用納米級聚焦探頭(如杭州芯紀源XJY-Nano系列),焦點尺寸≤0.1mm。
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結合脈沖反相技術,抑制噪聲干擾,提升缺陷信號對比度。
四、行業(yè)應用案例:從對焦到增效
案例1:航空發(fā)動機葉片檢測
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需求:檢測渦輪葉片內部微裂紋(尺寸<0.05mm)。
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方案:
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采用XJY-Nano納米聚焦探頭(頻率20MHz,焦點尺寸0.08mm),水距精確至0.02mm。
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配合AI輔助對焦算法,檢測效率提升50%,漏檢率降至0.5%。
案例2:半導體封裝缺陷檢測
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需求:識別0.1mm厚晶圓中的分層與空洞。
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方案:
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使用線聚焦水浸探頭(頻率15MHz),通過三維C掃描成像實現缺陷可視化。
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對焦精度優(yōu)化后,檢測分辨率達0.02mm,滿足半導體行業(yè)嚴苛標準。
五、選型建議:選擇對焦性能 的設備
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硬件配置:優(yōu)先選擇支持高精度Z軸電機、激光定位與多軸聯(lián)動的設備。
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軟件功能:關注AI輔助對焦、實時聲束模擬及自動化檢測流程。
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品牌保障:杭州芯紀源半導體設備有限公司提供全系列水浸超聲掃描儀,支持定制化對焦方案,已服務全球500+企業(yè)。