平臺和平臺附件標(biāo)準(zhǔn)和**平臺。
CS-1可升級接觸式SS-3樣品臺，可測波長范圍190-1700nm
SS-36“×6” 樣品平臺，F(xiàn)20 系統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)配置。 可調(diào)節(jié)鏡頭高度，103 mm 進深。 適用所有波長范圍。
SS-3-88“×8” 樣品平臺。可調(diào)節(jié)鏡頭高度，139mm 進深。 適用所有波長范圍。
SS-3-24F20 的 24“×24” 樣品平臺。 可調(diào)節(jié)鏡頭高度，550mm 進深。 適用所有波長范圍。
SS-56" x 6" 吋樣品臺，具有可調(diào)整焦距的反射光學(xué)配件，需搭配具有APC接頭的光纖，全波長范圍使用
樣品壓重-SS-3-50
樣品壓重 SS-3 平臺, 50mm x 50mm
樣品壓重-SS-3-110
樣品壓重 SS-3 平臺, 110mm x 110mm
紅外干涉測量技術(shù), 非接觸式測量。Filmetrics F50膜厚儀**
F60 系列
包含的內(nèi)容：集成平臺/光譜儀/光源裝置（不含平臺）4", 6" and 200mm 參考晶圓TS-SiO2-4-7200 厚度標(biāo)準(zhǔn)真空泵備用燈
型號厚度范圍*波長范圍
F60-t:20nm-70μm 380-1050nm
F60-t-UV:5nm-40μm 190-1100nm
F60-t-NIR:100nm-250μm 950-1700nm
F60-t-EXR:20nm-250μm 380-1700nm
F60-t-UVX:5nm-250μm 190-1700nm
F60-t-XT0:2μm-450μm 1440-1690nm
F60-t-s980:4μm-1mm 960-1000nm
F60-t-s1310:7μm-2mm 1280-1340nm
F60-t-s1550:10μm-3mm 1520-1580nm
額外的好處：每臺系統(tǒng)內(nèi)建超過130種材料庫, 隨著不同應(yīng)用更超過數(shù)百種應(yīng)用工程師可立刻提供幫助（周一 - 周五）網(wǎng)上的 “手把手” 支持 (需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級計劃 碳化硅膜厚儀自動化測量F3-sX 系列測厚范圍：10μm - 3mm；波長：960-1580nm。
電介質(zhì)成千上萬的電解質(zhì)薄膜被用于光學(xué)，半導(dǎo)體，以及其它數(shù)十個行業(yè), 而Filmetrics的儀器幾乎可以測量所有的薄膜。
測量范例氮化硅薄膜作為電介質(zhì)，鈍化層，或掩膜材料被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。這個案例中，我們用F20-UVX成功地測量了硅基底上氮化硅薄膜的厚度，折射率，和消光系數(shù)。有趣的事，氮化硅薄膜的光學(xué)性質(zhì)與薄膜的分子當(dāng)量緊密相關(guān)。使用Filmetrics專有的氮化硅擴散模型，F(xiàn)20-UVX可以很容易地測量氮化硅薄膜的厚度和光學(xué)性質(zhì)，不管他們是富硅，貧硅，還是分子當(dāng)量。
F10-ARc:
走在前端 以較低的價格現(xiàn)在可以很容易地測量曲面樣品，包括眼鏡和其他光學(xué)鏡片的防反射涂層, *需其他設(shè)備一小部分的的價格就能在幾秒內(nèi)得到精確的色彩讀值和反射率測量. 您也可選擇升級薄膜厚度測量軟件, 操作上并不需要嚴(yán)格的訓(xùn)練, 您甚至可以直覺的藉由設(shè)定任何波長范圍之比較大, **小和平均值.去定義顏色和反射率的合格標(biāo)準(zhǔn).
容易設(shè)定. 易於維護.只需將F10-ARc插上到您計算機的USB端口, 感謝Filmetrics的創(chuàng)新, F10-ARc 幾乎不存在停機時間, 加上40,000小時壽命的光源和自動板上波長校準(zhǔn)，你不需擔(dān)心維護問題。 F40-EXR范圍：20nm-120μm；波長：400-1700nm。
電介質(zhì)成千上萬的電解質(zhì)薄膜被用于光學(xué)，半導(dǎo)體，以及其它數(shù)十個行業(yè), 而Filmetrics的儀器幾乎可以測量所有的薄膜。常見的電介質(zhì)有:二氧化硅 – **簡單的材料之一, 主要是因為它在大部分光譜上的無吸收性 (k=0)， 而且非常接近化學(xué)計量 (就是說，硅：氧非常接近 1:2)。 受熱生長的二氧化硅對光譜反應(yīng)規(guī)范，通常被用來做厚度和折射率標(biāo)準(zhǔn)。 Filmetrics能測量3nm到1mm的二氧化硅厚度。氮化硅 – 對此薄膜的測量比很多電介質(zhì)困難，因為硅：氮比率通常不是3：4, 而且折射率一般要與薄膜厚度同時測量。 更麻煩的是，氧常常滲入薄膜，生成一定程度的氮氧化硅，增大測量難度。 但是幸運的是，我們的系統(tǒng)能在幾秒鐘內(nèi) “一鍵” 測量氮化硅薄膜完整特征!適用于所有可讓紅外線通過的材料 硅、藍寶石、砷化鎵、磷化銦、碳化硅、玻璃、石 英、聚合物等。Filmetrics F50膜厚儀**
幾乎任何形狀的樣品厚度和折射率的自動測繪。人工加載或機器人加載均可。Filmetrics F50膜厚儀**
樣品視頻包括硬件和照相機的F20系統(tǒng)視頻。視頻實時顯示精確測量點。 不包括SS-3平臺。SampleCam-sXsX探頭攝像機包含改裝的sX探頭光學(xué)配件，但不包含平臺。StageBase-XY8-Manual-40mm8“×8” 樣品平臺，具有SS-3鏡頭與38mm的精密XY平移聚焦平臺。能夠升級成電動測繪與自動對焦。StageBase-XY10-Auto-100mm10“×10” 全電動樣品平臺?？梢赃M行100mm高精度XY平移，包括自動焦距調(diào)節(jié)。SS-Microscope- UVX-1顯微鏡（15倍反射式物鏡）及X-Y平臺。 包含UV光源與照明光纖。SS-Microscope- EXR-1顯微鏡包含X- Y平臺及照明光纖. 需另選購物鏡. 通常使用顯微鏡內(nèi)建照明。SS-Trans-Curved用于平坦或彎曲表面的透射平臺，包括光纖，和 F10-AR 一起使用。 波長范圍 250nm -2500nm。T-1SS-3 平臺的透射測量可選件。包括光纖、平臺轉(zhuǎn)接器和平臺支架。 用于平坦的樣品。WS-300用于小于 300mm 樣品的平移旋轉(zhuǎn)平臺。Filmetrics F50膜厚儀**
岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)加太路39號第五層六十五部位。公司業(yè)務(wù)涵蓋磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)等，價格合理，品質(zhì)有保證。公司秉持誠信為本的經(jīng)營理念，在儀器儀表深耕多年，以技術(shù)為先導(dǎo)，以自主產(chǎn)品為重點，發(fā)揮人才優(yōu)勢，打造儀器儀表良好品牌。岱美儀器技術(shù)服務(wù)立足于全國市場，依托強大的研發(fā)實力，融合前沿的技術(shù)理念，飛快響應(yīng)客戶的變化需求。