中國澳門納米壓印現(xiàn)場服務(wù)

來源: 發(fā)布時間:2020-10-09

    面板廠為補償較低的開口率,多運用在背光模塊搭載較多LED的技術(shù),但此作法的缺點是用電量較高。若運用NIL制程,可確保適當(dāng)?shù)拈_口率,降低用電量。利用一般曝光設(shè)備也可在玻璃基板上形成偏光膜。然8代曝光設(shè)備一次可形成的圖樣面積較小。若要制造55吋面板,需要經(jīng)過數(shù)十次的曝光制程。不僅制程時間長,經(jīng)過多次曝光后,在圖樣間會形成細(xì)微的縫隙,無法完整顯示影像。若將NIL技術(shù)應(yīng)用在5代設(shè)備,可一次形成55吋、60吋面板的偏光膜圖樣。在8代基板可制造6片55吋面板,6次的壓印接觸可處理完1片8代基板。南韓業(yè)者表示,在玻璃基板上形成偏光圖樣以提升質(zhì)量的生產(chǎn)制程,是LCD領(lǐng)域中***一個創(chuàng)新任務(wù)。若加速NIL制程導(dǎo)入LCD生產(chǎn)的時程,偏光膜企業(yè)的營收可能減少。(來自網(wǎng)絡(luò)。EV Group 提供完整的UV 紫外光納米壓印光刻(UV-NIL)產(chǎn)品線。中國澳門納米壓印現(xiàn)場服務(wù)

EVG ® 7200 LA特征:

專有SmartNIL ®技術(shù),提供了****的印跡形大面積

經(jīng)過驗證的技術(shù),具有出色的復(fù)制保真度和均勻性

多次使用的聚合物工作印模技術(shù)可延長母版使用壽命并節(jié)省大量成本

強(qiáng)大且精確可控的處理

與所有市售的壓印材料兼容


EVG ® 7200 LA技術(shù)數(shù)據(jù):

晶圓直徑(基板尺寸):直徑200毫米(比較大Gen3)(550 x 650毫米)

解析度:40 nm-10 μm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:SmartNIL ®

曝光源:大功率窄帶(> 400 mW /cm2)

對準(zhǔn):可選的光學(xué)對準(zhǔn):≤±15 μm

自動分離:支持的

迷你環(huán)境和氣候控制:可選的


工作印章制作:支持的


福建納米壓印一級代理SmartNIL集成多次使用的軟標(biāo)記處理功能,并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢,同時保留可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的特點。

EVG ® 620 NT特征:

頂部和底部對準(zhǔn)能力

高精度對準(zhǔn)臺

自動楔形補償序列

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術(shù)

**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導(dǎo)

遠(yuǎn)程技術(shù)支持

多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權(quán)限,不同的用戶界面語言)

敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具

臺式或帶防震花崗巖臺的單機(jī)版


EVG ® 620 NT附加功能:

鍵對準(zhǔn)

紅外對準(zhǔn)

SmartNIL

μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑(基板尺寸)

標(biāo)準(zhǔn)光刻:比較大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL:比較大150毫米的碎片

SmartNIL ®:在100毫米范圍

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:軟UV-NIL&SmartNIL

®

曝光源:汞光源或紫外線LED光源

對準(zhǔn):

軟NIL:≤±0.5 μm

SmartNIL ®:≤±3微米

自動分離:柔紫外線NIL:不支持;SmartNIL

®:支持


工作印章制作:柔軟的UV-NIL:外部:SmartNIL ®:支持


    NIL系統(tǒng)肖特增強(qiáng)現(xiàn)實負(fù)責(zé)人RuedigerSprengard博士表示:“將高折射率玻璃晶圓的制造擴(kuò)展到300-mm,對于實現(xiàn)我們客戶滿足當(dāng)今和未來**AR/MR設(shè)備不斷增長的市場需求所需的規(guī)模經(jīng)濟(jì)產(chǎn)量來說至關(guān)重要。通過攜手合作,EVG和肖特彰顯了當(dāng)今300-mm高折射率玻璃制造的設(shè)備和供應(yīng)鏈的就緒性。”在此之前,使用光刻/納米壓印技術(shù)對具有光子學(xué)應(yīng)用結(jié)構(gòu)的玻璃基板進(jìn)行圖案成形***于200-mm基板。向300-mm晶圓加工的遷移是將AR/MR頭戴顯示設(shè)備推向大眾消費和工業(yè)市場邁出的重要一步。不過,在這些較大的基板上保持高基板質(zhì)量和工藝均勻性是很難控制的,需要先進(jìn)的自動化和工藝控制能力。EVG的SmartNIL技術(shù)得益于多年的研究、開發(fā)和實驗,旨在滿足納米圖案成形的需求,經(jīng)過了現(xiàn)場驗證,能夠輕松從晶圓級樣品尺寸擴(kuò)展到大面積基板。去年六月,EVG推出了HERCULES?NIL300mm,將SmartNIL引入300-mm制造,滿足各種設(shè)備和應(yīng)用的生產(chǎn)需求,其中包括AR、MR和虛擬現(xiàn)實(VR)頭戴顯示設(shè)備的光學(xué)器件以及3D傳感器、生物醫(yī)療設(shè)備、納米光子學(xué)和等離子電子學(xué)。集成到SmartNIL?UV-NIL系統(tǒng)的全模塊化EVG?HERCULES?。HERCULES?NIL是完全集成的納米壓印光刻解決方案,可實現(xiàn)300 mm的大批量生產(chǎn)。

    它為晶圓級光學(xué)元件開發(fā)、原型設(shè)計和制造提供了一種獨特的方法,可以方便地接觸***研發(fā)技術(shù)與材料。晶圓級納米壓印光刻和透鏡注塑成型技術(shù)確保在如3D感應(yīng)的應(yīng)用中使用小尺寸的高 分辨率光學(xué)傳感器供應(yīng)鏈合作推動晶圓級光學(xué)元件應(yīng)用要在下一代光學(xué)傳感器的大眾化市場中推廣晶圓級生產(chǎn),先進(jìn)的粘合劑與抗蝕材料發(fā)揮著不可取代的作用。開發(fā)先進(jìn)的光學(xué)材料,需要充分地研究化學(xué)、機(jī)械與光學(xué)特性,以及已被證實的大規(guī)模生產(chǎn)(HVM)的可擴(kuò)展性。擁有在NIL圖形壓印和抗蝕工藝方面的材料兼容性,以及自動化模制和脫模的專業(yè)知識,才能在已驗證的大規(guī)模生產(chǎn)中,以**小的形狀因子達(dá)到晶圓級光學(xué)元件的比較好性能。材料供應(yīng)商與加工設(shè)備制造商之間的密切合作,促成了工藝流程的研發(fā)與改善,確保晶圓級光學(xué)元件的高質(zhì)量和制造的可靠性。EVG和DELO的合作將支持雙方改善工藝流程與產(chǎn)品,并增強(qiáng)雙方的專業(yè)技能,從而適應(yīng)當(dāng)前與未來市場的要求。雙方的合作提供了成熟的材料與專業(yè)的工藝技術(shù),并將加快新產(chǎn)品設(shè)計與原型制造的速度,為雙方的客戶保駕護(hù)航?!癗ILPhotonics解決方案支援中心的獨特之處是:它解決了行業(yè)內(nèi)部需要用更短時間研發(fā)產(chǎn)品的需求,同時保障比較高的保密性。EVG?720/EVG?7200/EVG?7200LA是自動化的全場域納米壓印解決方案,適用于第3代基材。中科院納米壓印價格

SmartNIL集成了多次使用的軟標(biāo)記處理功能,因此還可以實現(xiàn)****的吞吐量。中國澳門納米壓印現(xiàn)場服務(wù)

    納米壓印微影技術(shù)可望優(yōu)先導(dǎo)入LCD面板領(lǐng)域原本計劃應(yīng)用在半導(dǎo)體生產(chǎn)制程的納米壓印微影技術(shù)(Nano-ImpLithography;NIL),現(xiàn)將率先應(yīng)用在液晶顯示器(LCD)制程中。NIL為次世代圖樣形成技術(shù)。據(jù)ETNews報導(dǎo),南韓顯示器面板企業(yè)LCD制程研發(fā)小組,未確認(rèn)NIL設(shè)備實際圖樣形成能力,直接參訪海外NIL設(shè)備廠。該制程研發(fā)小組透露,若引進(jìn)相關(guān)設(shè)備,將可提升面板性能。并已展開具體供貨協(xié)商。NIL是以刻印圖樣的壓印機(jī),像蓋章般在玻璃基板上形成圖樣的制程。在基板上涂布UV感光液后,再以壓印機(jī)接觸施加壓力,印出面板圖樣。之后再經(jīng)過蝕刻制程形成圖樣。NIL可在LCD玻璃基板上刻印出偏光圖樣,不需再另外貼附偏光薄膜。雖然在面板制程中需增加NIL、蝕刻制程,但省落偏光膜貼附制程,可維持同樣的生產(chǎn)成本。偏光膜會吸收部分光線降低亮度。若在玻璃基板上直接形成偏光圖樣,將不會發(fā)生降低亮度的情況。通常面板分辨率越高,因配線較多,較難確保開口率(ApertureRatio)。中國澳門納米壓印現(xiàn)場服務(wù)

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司專注技術(shù)創(chuàng)新和產(chǎn)品研發(fā),發(fā)展規(guī)模團(tuán)隊不斷壯大。公司目前擁有較多的高技術(shù)人才,以不斷增強(qiáng)企業(yè)重點競爭力,加快企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新,實現(xiàn)穩(wěn)健生產(chǎn)經(jīng)營。岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司主營業(yè)務(wù)涵蓋磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā),堅持“質(zhì)量保證、良好服務(wù)、顧客滿意”的質(zhì)量方針,贏得廣大客戶的支持和信賴。公司深耕磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā),正積蓄著更大的能量,向更廣闊的空間、更寬泛的領(lǐng)域拓展。